長尾 昌善 | 産業技術総合研究所
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
長尾 昌善
産業技術総合研究所
-
金丸 正剛
産業技術総合研究所
-
金丸 正剛
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
吉田 知也
産業技術総合研究所
-
根尾 陽一郎
静岡大学電子工学研究所
-
三村 秀典
静岡大学電子工学研究所
-
根尾 陽一郎
静岡大学・電子工学研究所
-
根尾 陽一郎
静岡大学 電子工学研究所
-
三村 秀典
The Research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
金丸 正剛
電総研
-
吉田 知也
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
青木 徹
静岡大学・電子工学研究所
-
青木 徹
静岡大学電子工学研究所
-
三村 秀典
静岡大学・電子工学研究所
-
西 孝
産業技術総合研究所
-
三村 秀典
静岡大学大学院電子科学研究科
-
武田 匡史
静岡大学電子工学研究所
-
伊藤 順司
電子技術研究所
-
小池 昭史
静岡大学電子工学研究所
-
伊藤 順司
産業技術総合研究所
-
小池 昭史
株式会社ANSeeN
-
森井 久史
静岡大学・電子工学研究所
-
藤野 高弘
静岡大学電子工学研究所
-
山下 進
静岡大学電子工学研究所
-
中川 雅史
静岡大学・電子工学研究所
-
松原 勝見
静岡大学・電子工学研究所
-
惣田 崇志
静岡大学 電子工学研究所
-
酒井 健太郎
名城大学理工学部
-
村田 英一
名城大学理工学部
-
恒川 裕輝
静岡大学・電子工学研究所
-
森井 久史
静岡大学電子工学研究所
-
松原 勝見
静岡大学電子工学研究所
-
村田 英一
名城大学理工学部電気電子工学科
-
松川 貴
産業技術総合研究所
-
松川 貴
(独)産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
-
安室 千晃
産業技術総合研究所
-
惣田 崇志
静岡大学電子工学研究所
-
松川 貴
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
中川 雅史
静岡大学電子工学研究所
-
高木 康男
静岡大学電子工学研究所
-
松川 貴
独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
松川 貴
連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター,ナノエレクトロニクス研究部門,産業技術総合研究所
-
佐藤 貴伸
筑波大学 物理工学系
-
山下 進
静岡大学・電子工学研究所
-
神田 信子
産業技術総合研究所
-
田上 智也
静岡大学電子工学研究所
-
堀江 瞬
静岡大学電子工学研究所
-
恒川 裕輝
静岡大学電子工学研究所
-
長尾 昌善
独立行政法人産業技術総合研究所
-
佐長 裕
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
-
佐長 裕
産業技術総合研究所
-
谷口 昌照
双葉電子工業株式会社
-
伊藤 茂生
双葉電子工業
-
伊藤 茂生
Futaba Corporation
-
堺 俊克
NHK放送技術研究所
-
斎藤 信雄
NHK放送技術研究所
-
斎藤 信雄
(株)国際電気通信基礎技術研究所
-
塙 裕一郎
静岡大学電子工学研究所
-
坂田 拓也
静岡大学電子工学研究所
-
韓 貴
静岡大学電子工学研究所
-
清水 貴思
産業技術総合研究所
-
金丸 正剛
独立行政法人産業技術総合研究所
-
田上 尚男
産業技術総合研究所
-
西 孝
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
坂村 祐一
産業技術総合研究所
-
清水 貴思
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
堺 俊克
NHK技研
-
長尾 昌善
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
中村 和仁
双葉電子工業株式会社
-
丸島 吉久
双葉電子工業
-
山本 恵彦
独立行政法人産業技術総合研究所 中央第2エレクトロニクス研究部門
-
萩原 啓
NHK放送技術研究所
-
石川 順三
Dep. Of Electronics And Information Engineering Chubu Univ.
-
辻 博司
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
-
後藤 康仁
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
-
根尾 陽一郎
静岡大学 大学院電子科学研究科
-
三村 秀典
静岡大学 電子科学研究所
-
青木 徹
静岡大学 電子工学研究所
-
中村 好志
京都大学工学研究科
-
小島 俊彦
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
池尻 忠司
日新イオン機器株式会社
-
海勢頭 聖
日新イオン機器株式会社
-
酒井 滋樹
日新イオン機器株式会社
-
長井 宣夫
日新イオン機器株式会社
-
後藤 康仁
京都大学工学研究科
-
小島 俊彦
京都大学工学研究科
-
辻 博司
京都大学工学研究科
-
石川 順三
京都大学工学研究科
-
金丸 正則
産業技術総合研究所
-
後藤 康仁
京都大学大学院工学研究科
-
嶋脇 秀隆
八戸工業大学システム情報工学科・助教授
-
辻 博司
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
-
田辺 尚雄
大日本印刷(株)
-
山内 洋美
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
小池 昭文
静岡大学電子工学研究所
-
大崎 壽
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
武田 匡史
静岡大学 電子工学研究所
-
伊藤 順司
電子技術総合研究所プロセス基礎研究室
-
山本 恵彦
筑波大学物理工学系
-
佐藤 貴伸
筑波大学物理工学系
-
若家 冨士男
大阪大学極限量子科学研究センター
-
金丸 正剛
電子技術総合研究所
-
後藤 康仁
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
中野 武雄
成蹊大学理工学部
-
伊藤 順司
電子技術総合研究所
-
Hirama Toshiyasu
Research Center For Charged Particle Therapy National Institute Of Radiological Sciences
-
山本 恵彦
筑波大学・物理工学系
-
長尾 昌善
電子技術総合研究所
-
松川 貴
電子技術総合研究所
-
山内 洋美
(独)産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
-
長尾 正善
産業技術総合研究所
-
高井 幹夫
大阪大学極限科学研究センター
-
田上 知也
静岡大学電子工学研究所
-
山内 洋美
産業技術総合研究所
-
吉澤 俊一
産業技術総合研究所
著作論文
- 超高輝度フィールドエミッションディスプレイの試作(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- メモリー機能を有するフィールドエミッタアレイの作製 : 超高輝度フィールドエミッションディスプレイに向けて(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- TFT制御FED(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- VTF-FEAを用いたCdTe X線イメージングデバイスの開発
- フィールドエミッタアレイを用いたCdTe放射線検出器の研究
- 集束電極付FEAを用いたCdTe-X線イメージセンサの提案(機能ナノデバイスとおよび関連技術)
- イオン注入装置の帯電緩和素子への応用を目指したシリコンフィールドエミッタアレイの開発(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 放射角制御可能なマイクロカラム用電子銃の作成と評価(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 高収束電子ビームを目指した静電レンズ一体型フィールドエミッタの作製(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 薄膜立体化技術を用いたFEA作製(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 静電レンズ一体型FEAの試作と評価(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- Field Emitter Arrayの高機能化とその応用 : FEAを用いた新規アプリケーションの提案(機能ナノデバイス及び関連技術)
- Field Emitter Arrayの高機能化とその応用 : FEAを用いた新規アプリケーションの提案(機能ナノデバイス及び関連技術)
- 集束電極付FEAを用いたCdTe-X線イメージセンサの提案(機能ナノデバイスとおよび関連技術)
- フィールドエミッションアレイを用いたX線イメージング技術
- 高精細FED用ダブルゲートFEAの開発
- 高精細FED用ダブルゲートFEAの開発(ディスプレイに関する技術全般,LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品・材料及び応用技術,発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- HfC被覆ポリシリコンフィールドエミッタアレイ
- HfC被覆ポリシリコンフィールドエミッタアレイ(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- Si FEAのHfC被覆による特性改善 : 引出ゲート付きHfC被覆Si FEAの作製と評価
- 高精細FED用ダブルゲートFEAの開発 (情報ディスプレイ)
- メモリ機能を有するシリコンTFTで制御されたフィールドエミッタアレイ(第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007))
- メモリ機能を有するシリコンTFTで制御されたフィールドエミッタアレイ(第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007))
- FEA制御のためのポリシリコンTFTの構造最適化(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- ポリシリコンTFT一体型HfC被覆フィールドエミッタアレイ(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 表面改質によるシリコンフィールドエミッタの特性向上
- Siフィールドエミッタの表面改質による真空封止処理耐性の向上
- マイクロサイズの電子線筐筒の開発とその応用(機能ナノデバイス及び関連技術)
- マイクロサイズの電子線筐筒の開発とその応用(機能ナノデバイス及び関連技術)
- マイクロサイズ電子線筐筒用の電子銃部に関する研究(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 静電レンズ一体型フィールドエミッタの作製方法の改良(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 超高精細FED用微小電子源の電子光学特性 (電子ディスプレイ)
- 超高精細FED用微小電子源の電子光学特性 (情報ディスプレイ)
- 12-5 Vertical Thin Film Field Emitter Arrayを用いたCdTe X線イメージングデバイス(第12部門 センシング2)
- 12-6 FEA駆動CdTe-X線イメージセンサ(第12部門 情報センシング2)
- 14-6 高精細FED用ダブルゲートFEA(第14部門 情報ディスプレイ2)
- 1-3 電流量減少を抑制するダブルゲートFEA構造の提案(第1部門 情報ディスプレイ&ストレージ)
- 1-6 FEA駆動フォトンカウンティング型CdTe-X線イメージングデバイス(第1部門 センシング&コンシューマエレクトロニクス&ストレージ)
- 超高精細FED用微小電子源の電子光学特性
- 2-12 高精細FED用静電レンズ一体型FEAの試作と評価(第2部門 ディスプレイ)
- スパッタプロセスを用いたスピント型電子源の作製(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- シリコン冷陰極からの光支援による電子放射(電子管と真空ナノエレクトロニクス)
- 二層レジストを用いたvolcano型ダブルゲートスピント型エミッタの作製(電子管と真空ナノエレクトロニクス)