伊藤 順司 | 電子技術研究所
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概要
関連著者
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伊藤 順司
電子技術研究所
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伊藤 順司
産業技術総合研究所
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金丸 正剛
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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金丸 正剛
産業技術総合研究所
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伊藤 順司
電子技術総合研究所プロセス基礎研究室
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伊藤 順司
電子技術総合研究所
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松川 貴
産業技術総合研究所
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松川 貴
(独)産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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長尾 昌善
産業技術総合研究所
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金丸 正剛
電子技術総合研究所
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松川 貴
電子技術総合研究所
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松川 貴
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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松川 貴
独立行政法人産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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松川 貴
連携研究体グリーン・ナノエレクトロニクスセンター,ナノエレクトロニクス研究部門,産業技術総合研究所
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山本 恵彦
独立行政法人産業技術総合研究所 中央第2エレクトロニクス研究部門
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佐藤 貴伸
筑波大学 物理工学系
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山本 恵彦
筑波大学物理工学系
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佐長 裕
産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門
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佐長 裕
産業技術総合研究所
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山本 恵彦
筑波大学・物理工学系
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安室 千晃
産業技術総合研究所
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森 尚子
日立製作所電子デバイス事業部
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小澤 亮
筑波大学物理工学系
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田上 尚男
産業技術総合研究所
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小沢 健
武蔵工業大学
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矢口 富雄
日立製作所電子デバイス事業部
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鈴木 豊
筑波大学物理工学系
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坂村 祐一
産業技術総合研究所
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徳永 和朗
東海大学
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高野 善道
NHK放送技術研究所
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御子柴 茂生
電気通信大学
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津村 誠
(株)日立製作所日立研究所
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横山 浩
産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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鈴木 公平
(株)東芝 材料・デバイス研究所
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鈴木 公平
(株)東芝 ディスプレイ・部品材料社
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鈴木 公平
株式会社東芝
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田中 省作
鳥取大学 工学部 電気電子工学科
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井上 貴仁
産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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松本 光崇
日本電気株式会社 基礎・環境研究所
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澤邊 厚仁
青山学院大学理工学部
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澤邊 厚仁
青山学院大
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白井 正司
(株)日立製作所ディスプレイグループ
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白井 正司
日立
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小泉 聡
独立行政法人 物質・材料研究機構
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津村 誠
日立
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津村 誠
株)日立製作所 日立研究所
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津村 誠
株式会社日立製作所
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津村 誠
日立製作所日立研究所
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津村 誠
(株)日立製作所日立研究所画像デバイス研究部
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松本 光崇
産業技術総合研究所
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小泉 聡
物材機構
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高野 善道
Nhk 放送技研
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内藤 耕
産業技術総合研
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田辺 尚雄
大日本印刷(株)
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金丸 正剛
電総研
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山内 洋美
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
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志和 新一
(株)ATR
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小泉 聡
無機材質研究所
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岡野 健
国際基督教大学物質科学デパートメント
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御子柴 茂生
電気通信大学電子工学科
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松本 光崇
東京工業大学大学院 社会理工学研究科価値システム専攻 博士後期課程
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松本 光崇
京都大学工学部 電気工学第二教室
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横田 慎二
産業技術総合研究所
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内藤 耕
産業技術総合研究所
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山田 貴壽
産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
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小澤 健
武蔵工業大学
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佐藤 貴伸
筑波大学物理工学系
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小泉 聡
物質・材料研究機構物質研究所
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小泉 聡
青山学院大学理工学部電気電子工学科
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尾関 幸太
筑波大学物理工学系
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伊藤 順司
工業技術院電子総合研究所
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山田 貴壽
青山学院大学理工学部電気電子工学科
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山田 貴寿
青山学院大学理工学部
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井上 貴仁
サントリー(株)生物医学研究所
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白井 正司
(株)日立製作所 電子デバイス事業部
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金丸 正剛
工業技術院電子技術総合研究所
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長尾 昌善
電子技術総合研究所
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山内 洋美
(独)産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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岡野 健
国際基督教大学
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澤邊 厚仁
青山学院大学理工学部電気電子工学科
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山田 貴壽
(独)産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
-
山内 洋美
産業技術総合研究所
著作論文
- TFT制御FED(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 画像表示
- 2H07 公的研究機関の社会インパクト評価の開発に向けた検討(評価(2),一般講演,第22回年次学術大会)
- HfC被覆ポリシリコンフィールドエミッタアレイ
- HfC被覆ポリシリコンフィールドエミッタアレイ(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- Si FEAのHfC被覆による特性改善 : 引出ゲート付きHfC被覆Si FEAの作製と評価
- 走査型マスクウェル応力顕微鏡によるFe-42Ni合金表面のミクロ仕事関数分布計測
- 表面粗さの評価/パワースペクトル密度と傾きヒストグラム
- 走査型プローブ顕微鏡による電界電子放射の計測
- FEA制御のためのポリシリコンTFTの構造最適化(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- ポリシリコンTFT一体型HfC被覆フィールドエミッタアレイ(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- 気相成長ダイヤモンドからの電子放出機構の解明
- フィールドエミッションディスプレイ(FED)
- 表面改質によるシリコンフィールドエミッタの特性向上
- Siフィールドエミッタの表面改質による真空封止処理耐性の向上
- フィールドエミッションディスプレイ(新しい画像出力装置)
- 真空マイクロエレクトロニクスの展望
- 真空マイクロエレクトロニクスの展望
- 電流制御型シリコンエミッタ
- 電流制御型シリコンエミッタ
- ナノメートル加工の応用(1) -真空マイクロエレクトリニクスへの応用-