澤邊 厚仁 | 青山学院大学理工学部
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概要
関連著者
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澤邊 厚仁
青山学院大学理工学部
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澤邊 厚仁
青山学院大
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澤邊 厚仁
青学大理工
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安藤 豊
青学大理工
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澤邊 厚仁
青山学院大学理工学部電気電子工学科
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安藤 豊
青山学院大学理工学部
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犬塚 直夫
青山学院大学理工学部
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山岡 和貴
青学大理工
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吉田 篤正
青学大理工
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山岡 和貴
青山学院大
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金子 純一
北大
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山岡 和貴
青学大理
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中平 聡志
青学大
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中平 聡志
青学大理工
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斎藤 裕子
青学大理工
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金子 純一
北大工
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吉田 篤正
青学大理
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酒井 忠司
(株)東芝 研究開発センター
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石田 純一
室蘭工業大学
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酒井 忠司
株式会社東芝 研究開発センター
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佐久間 尚志
株式会社東芝 研究開発センター
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石田 純一
青山学院大学理工学部電気電子工学科
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齋藤 智子
青山学院大学理工学部電気電子工学科
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奥和田 久美
青山学院大学理工学部電気電子工学科
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山岡 一貴
青山学院大 理工
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中平 聡志
青山学院大学理工学研究科
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児玉 英之
青山学院大学 理工学部
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鷲山 瞬
青山学院大学 理工学部
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市原 幸雄
青山学院大学 理工学部
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Yoshida Atsumasa
The Institute Of Physical And Chemical Research(riken)
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児玉 英之
青山学院大学:AGDマテリアル(株)
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桑原 潤史
青山学院大学
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鷲山 瞬
青山学院大学
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市原 幸雄
青山学院大学
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児玉 英之
青山学院大学
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村中 隆弘
青学大理工
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中川 あい子
青学大理工
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秋光 純
青学大理工
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大野 正人
青学大理工
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長 秀雄
青山学院大
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児玉 英之
神奈川科学技術アカデミー
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竹本 幹男
青山学院大学 理工学部 機械創造工学科
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池田 隆二
旭ダイヤモンド工業(株)
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増田 淳
産総研
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古滝 敏郎
並木精密宝石(株)
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小山 浩司
並木精密宝石(株)
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中村 新一
青山学院大学
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小泉 聡
独立行政法人 物質・材料研究機構
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小泉 聡
物材機構
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中村 新一
青山学院大学 理工学部附置機器分析センター
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長 秀雄
青山学院大学 理工学部 機械創造工学科
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犬塚 直夫
青山学院大学
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伊藤 順司
電子技術研究所
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伊藤 順司
電子技術総合研究所プロセス基礎研究室
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小泉 聡
無機材質研究所
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岡野 健
国際基督教大学物質科学デパートメント
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Akimitsu Jun
Faculty Of Science And Engineering Aoyama-gakuin University
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八木 孝将
青学大理工
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伊藤 順司
産業技術総合研究所
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山田 貴壽
産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
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小泉 聡
物質・材料研究機構物質研究所
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小泉 聡
青山学院大学理工学部電気電子工学科
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齋藤 光以
青山学院大学 理工学部
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池田 隆二
旭ダイヤモンド(株)研究所
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Yoshida Atsumasa
The Institute Of Physical And Chemical Research
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桑原 潤史
青山学院大学理工学研究科電気電子工学専攻
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山田 貴壽
青山学院大学理工学部電気電子工学科
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山田 貴寿
青山学院大学理工学部
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伊藤 順司
電子技術総合研究所
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福田 秀夫
青山学院大学理工学部電気電子工学科
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鈴木 一博
(株)トウ・プラス
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鈴木 一博
(株)トウプラス
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竹本 幹男
青山学院大
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河野 省三
青山学院大学 理工学部
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王 宏興
セキテクノトロン(株)
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安藤 豊
トーメイダイヤ(株)
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日高 正洋
青山学院大学 理工学部
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阿部 諭
青山学院大学 理工学部
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大山 幸希
並木精密宝石(株)
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石垣 哲孝
セキテクノトロン(株)
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武藤 勝彦
セキテクノトロン(株)
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岡野 健
国際基督教大学
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澤邊 厚仁
青山学院大学:AGDマテリアル(株)
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鈴木 一博
トウプラスエンジニアリング(株)
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前田 真太郎
青山学院大学
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鎌野 崇
青山学院大学
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篠崎 元太
青山学院大学
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木村 清貴
青山学院大学
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山田 貴壽
(独)産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター
著作論文
- 24aZH-13 CVDダイヤモンドを用いた放射線検出器の開発II(24aZH 宇宙物理,宇宙線・宇宙物理領域)
- 27aSF-6 CVDダイヤモンド結晶を用いた検出器の開発(27aSF X線・γ線,宇宙線・宇宙物理領域)
- ヘテロエピダイヤモンドのナノ構造制御と電子放出特性の評価(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
- ヘテロエピダイヤモンドのナノ構造制御と電子放出特性の評価
- 321 パルスレーザ・アブレーションを用いた硬質表面薄膜の加工
- IrO_2電極膜上におけるPZTの配向成長
- IrO_2電極膜上におけるPZTの配向成長
- 青山学院大学理工学部 澤邊研究室
- ダイヤモンド薄膜の新しい機能とその可能性 -冷陰極を中心に-
- 電子線及び直流プラズマCVDによるダイヤモンド膜(超硬質薄膜形成技術の新展開)
- Ir(001)基板上にエピタキシャル成長したダイヤモンド薄膜の微細構造
- 気相成長ダイヤモンドからの電子放出機構の解明
- 21aPS-126 Bドープダイヤモンド・炭化珪素薄膜の合成・評価(領域8ポスターセッション(低温),領域8,強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など)
- 17pA04 ダイヤモンドのヘテロエピタキシャル成長技術(機能性材料ダイヤモンド,バルク成長シンポジウム,第35回結晶成長国内会議)
- 応用物理とものづくり : 応用物理学会と産業界の一層の連携を目指して
- ダイヤモンドのヘテロエピタキシャル成長 (ワイドギャップ半導体とそのデバイス応用論文小特集)
- IrO 電極膜状におけるPZT の配向成長 (高機能性を有する無機薄膜材料)
- ヘテロエピタキシャルダイヤモンド基板の開発とそのデバイス応用
- 電子線を用いたCVDによって作製したダイヤモンド薄膜の電気的・物理的諸特性
- ダイヤモンドの低圧合成と電気材料への応用
- 気相からのダイヤモンド薄膜の作製とその評価
- イリジウム下地表面への選択成長法を用いたヘテロエピタキシャルダイヤモンドの作製 : 高品質ダイヤモンド実現に向けた取り組み(ダイヤモンド成長)