637 半導体溝型素子分離構造における酸化プロセス誘起応力解析
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概要
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The buildup of stress during oxidation of a trench isolation structure is analyzed using a finite element method. In this analysis, we considered stress-dependent oxidation model and the viscoelasticity of materials. The parameters that affect the buildup of stress in the structure are temperature and ambient gas during oxidation and the dimensions (width and depth) of the trench structure. Effective ways for reducing stress are discussed based on simulation results in order to improve product reliability.
- 2000-11-27
著者
-
石塚 典男
(株)日立製作所機械研究所
-
石塚 典男
日立機械研
-
三浦 英生
日立機械研
-
鈴木 範夫
日立半導体グループ
-
三浦 英生
東北大学大学院工学研究科
-
三浦 英生
東北大
-
鈴木 範夫
(株)日立製作所半導体グループ:(現)トレセンティテクノロジーズ
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