RIE-Lag Reduction by NH_3 Addition in Aluminum Alloy Etching under BCl_3/Cl_2 Chemistry

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概要

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• 1996-08-26

著者

• NAKAGAWA Hideo

  Semiconductor Company, Matsushita Electric Industrial Co. Ltd.

• Kubota M

  Opto-electronics Laboratories Oki Electric Industry Co. Ltd.

• Nakagawa Hideo

  Association Of Super-advanced Electronics Technologies(aset)

• Yamanaka Michinari

  Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Ind. Co., Ltd.

• Yamanaka M

  Electron Devices Division Electrotechnical Laboratory

• KUBOTA Masafumi

  Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

• Kubota Masafumi

  Semiconductor Research Center Matsushita Electric Industrial Co. Ltd.

• Yamanaka Michinari

  Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Ind. Co. Ltd.,

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