Suppression of Resistance Increase in Al/W Interconnects by N_2 Plasma Treatment

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概要

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• 1995-08-21

著者

• Fujii T

  Institute Of Industrial Science University Of Tokyo

• Fujii T

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• Yamanaka Michinari

  Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Ind. Co., Ltd.

• Yamanaka M

  Electron Devices Division Electrotechnical Laboratory

• Sekiguchi Mitsuru

  Semiconductor Research Center Matsushita Electric Ind.co.ltd.

• FUJII Toyokazu

  Kyoto Research Laboratory, Matsushita Electronics Co.

• Sekiguchi Mitsuru

  Semiconductor Research Center Matsushita Electric Ind. Co. Ltd.

• Yamanaka Michinari

  Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Ind. Co. Ltd.,

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