A Novel Al/TiN/CVD-W Structure to Eliminate Resistance Anomaly in Deep Submicron Al/CVD-W Interconnects
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1995-02-28
著者
-
Fujii T
Institute Of Industrial Science University Of Tokyo
-
Fukumoto Masanori
Semiconductor Research Center Matsushita Electric Ind. Co. Ltd.
-
Fujii T
Tohoku Univ. Sendai Jpn
-
Sekiguchi Mitsuru
Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Ind. Co., Ltd.
-
Fujii Toyokazu
Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Ind. Co., Ltd.
-
Yamanaka Michinari
Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Ind. Co., Ltd.
-
Yamanaka M
Electron Devices Division Electrotechnical Laboratory
-
Sekiguchi Mitsuru
Semiconductor Research Center Matsushita Electric Ind.co.ltd.
-
Sekiguchi Mitsuru
Semiconductor Research Center Matsushita Electric Ind. Co. Ltd.
-
Yamanaka Michinari
Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Ind. Co. Ltd.,
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