Kuraguchi Masahiko | Advanced Electron Devices Laboratory Corporate R&d Center Toshiba Corporation
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概要
関連著者
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高田 賢治
東芝研究開発センター先端電子デバイスラボラトリー
-
蔵口 雅彦
東芝研究開発センター
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Takada Yoshiharu
Advanced Electron Devices Laboratory Corporate R&d Center Toshiba Corporation
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Kuraguchi Masahiko
Advanced Electron Devices Laboratory Corporate R&d Center Toshiba Corporation
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Tsuda Kunio
Advanced Electron Devices Laboratory Corporate R&d Center Toshiba Corporation
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津田 邦男
(株)東芝研究開発センター
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広瀬 真由美
(株)東芝 研究開発センター
-
広瀬 真由美
東芝研究開発センター
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Hirose Mayumi
Advanced Electron Devices Laboratory Corporate R&d Center Toshiba Corporation
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津田 邦男
東芝研究開発センター
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大村 一郎
九州工業大学
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大村 一郎
株式会社 東芝
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鈴木 隆
東芝研究開発センター
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鈴木 隆
(株)東芝研究開発センター
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松下 景一
東芝社会ネットワークインフラ社小向工場マイクロ波技術部
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桜井 博幸
東芝社会ネットワークインフラ社小向工場マイクロ波技術部
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川崎 久夫
東芝社会ネットワークインフラ社小向工場マイクロ波技術部
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増田 和俊
東芝社会システム社小向工場マイクロ波技術部
-
高塚 眞治
東芝社会システム社 小向工場 マイクロ波技術部
-
蔵口 雅彦
東芝研究開発センター先端電子デバイスラボラトリー
-
鈴木 拓馬
Advanced Electron Devices Laboratory Corporate R&d Center Toshiba Corporation
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Takagi Kazutaka
Microwave Solid-state Engineering Dept. Komukai Operations Toshiba Corporation
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小倉 常雄
東芝
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Suzuki Takuma
Advanced Electron Devices Laboratory Corporate R&d Center Toshiba Corporation
-
Kawasaki Hisao
Microwave Solid-state Engineering Dept. Komukai Operations Toshiba Corporation
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増田 和俊
東芝 社会システム社 小向工場
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Takatsuka Shinji
Microwave Solid-state Engineering Dept. Komukai Operations Toshiba Corporation
-
Sakurai Hiroyuki
Microwave Solid-state Engineering Dept. Komukai Operations Toshiba Corporation
-
齋藤 渉
東芝セミコンダクター社
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高木 一考
東芝社会ネットワークインフラ社小向工場マイクロ波技術部
-
増田 和俊
東芝社会システム社 小向工場 マイクロ波技術部
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大村 一郎
東芝 セミコンダクター社
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川崎 久夫
(株)東芝社会ネットワークインフラ社小向工場
-
大村 一郎
東芝セミコンダクター社
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高田 賢治
東芝 セミコンダクター社、研究開発センター
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蔵口 雅彦
東芝 セミコンダクター社、研究開発センター
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津田 邦男
東芝 セミコンダクター社、研究開発センター
-
津田 邦男
東芝研究開発センター先端電子デバイスラボラトリー
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Masuda Kazutoshi
Microwave Solid-state Engineering Dept., Komukai Operations, Toshiba Corporation
-
Takatsuka Shinji
Microwave Solid-state Engineering Dept., Komukai Operations, Toshiba Corporation
-
Kuraguchi Masahiko
Advanced Electron Devices Laboratory, Corporate R&D Center, Toshiba Corporation
-
Suzuki Takuma
Advanced Electron Devices Laboratory, Corporate R&D Center, Toshiba Corporation
-
Hirose Mayumi
Advanced Electron Devices Laboratory, Corporate R&D Center, Toshiba Corporation
-
広瀬 真由美
東芝研究開発センター先端電子デバイスラボラトリー
-
佐々木 忠寛
(株)東芝研究開発センター
-
津田 邦男
(株)東芝 研究開発センター 先端半導体デバイス研究所
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高田 賢治
(株)東芝 研究開発センター
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蔵口 雅彦
(株)東芝 研究開発センター
-
鈴木 隆
(株)東芝 研究開発センター
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齋藤 渉
東芝 セミコンダクター社
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小倉 常雄
東芝 セミコンダクター社
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Matsushita Keiichi
Microwave Solid-state Engineering Dept. Komukai Operations Toshiba Corporation
-
佐々木 忠寛
(株)東芝 研究開発センター
-
小倉 常雄
東芝セミコンダクター社
-
沈 正七
東芝社会ネットワークインフラ社小向工場マイクロ波技術部
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寺本 信一郎
東芝社会ネットワークインフラ社小向工場マイクロ波技術部
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Suzuki Takashi
Advanced Electron Devices Laboratory, Corporate R&D Center, Toshiba Corporation
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桜井 博幸
東芝会社ネットワークインフラ社小向工場マイクロ波技術部
-
松下 景一
東芝会社ネットワークインフラ社小向工場マイクロ波技術部
-
増田 和俊
東芝会社ネットワークインフラ社小向工場マイクロ波技術部
-
高塚 眞治
東芝会社ネットワークインフラ社小向工場マイクロ波技術部
-
鈴木 拓馬
東芝研究開発センター先端電子デバイスラボラトリー
-
川崎 久夫
東芝会社ネットワークインフラ社小向工場マイクロ波技術部
-
高木 一考
東芝会社ネットワークインフラ社小向工場マイクロ波技術部
-
高田 賢治
東芝セミコンダクター社研究開発センター
-
蔵口 雅彦
東芝セミコンダクター社研究開発センター
-
沈 正七
東芝社会ネットワークインフラ社 小向工場 マイクロ波技術部
-
齋藤 泰伸
東芝セミコンダクター社
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山口 正一
東芝セミコンダクター社
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山口 正一
株式会社 東芝
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山口 正一
(株)東芝セミコンダクター社
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齋藤 渉
東芝
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野田 隆夫
東芝
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津田 邦男
東芝セミコンダクター社研究開発センター
-
山口 正一
東芝
-
齋藤 泰伸
東芝
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湯元 美樹
東芝研究開発センター
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高田 賢治
東芝 研究開発センター
-
蔵口 雅彦
東芝 研究開発センター
-
津田 邦男
東芝 研究開発センター
-
斎藤 渉
東芝セミコンダクター社
-
津田 邦身
東芝セミコンダクター社研究開発センター
-
TAKADA Yoshiharu
Advanced Electron Devices Laboratory, Corporate R&D Center, Toshiba Corporation
-
SAKURAI Hiroyuki
Microwave Solid-state Engineering Dept., Komukai Operations, Toshiba Corporation
-
MATSUSHITA Keiichi
Microwave Solid-state Engineering Dept., Komukai Operations, Toshiba Corporation
-
SUZUKI Takashi
Toshiba Corporation
著作論文
- AlGaN/GaN HEMTのDCストレスによる信頼性評価(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- C帯170W出力GaN-HEMTの開発(特別セッションテーマ: GaN電子デバイスはどこまで特性を伸ばすのか?, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
- AlGaN/GaN-HEMTに対するドライエッチングの低ダメージ化の検討(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- 高耐圧GaN-HEMTにおけるバッファ層構造と電気的特性の相関
- AlGaN/GaN HEMTのDCストレスによる信頼性評価(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- AlGaN/GaN HEMTのDCストレスによる信頼性評価(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
- 高耐圧GaN-HEMTにおける電流コラプスのフィールドプレート構造依存性
- GaN系MISFETの開発(化合物半導体デバイスのプロセス技術)
- C帯170W出力GaN-HEMTの開発(特別セッションテーマ: GaN電子デバイスはどこまで特性を伸ばすのか?, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
- C帯170W出力GaN-HEMTの開発(特別セッションテーマ: GaN電子デバイスはどこまで特性を伸ばすのか?, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
- アンドープAlGaN/GaN HEMTを用いた1.9GHz動作SPDTスイッチ
- C-10-12 AlGaN/GaN HEMTを用いた5W出力1.9GHz動作SPDTスイッチ(C-10. 電子デバイス, エレクトロニクス2)
- 5W出力1.9GHz動作のAlGaN/GaN-HEMT SPDTスイッチ(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
- 5W出力1.9GHz動作のAlGaN/GaN-HEMT SPDTスイッチ(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
- 600V AlGaN/GaN HEMTの試作とDC-DCコンバータ連続運転試験
- 600V GaN-HEMTを用いたDC-DCコンバータ連続運転(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス)
- 600V GaN-HEMTを用いたDC-DCコンバータ連続運転(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス)
- フィールドプレート構造を用いたGaNパワーデバイスの最適設計(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- フィールドプレート構造を用いたGaNパワーデバイスの最適設計(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- フィールドプレート構造を用いたGaNパワーデバイスの最適設計(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- フィールドプレート構造を用いたGaNパワーデバイスの最適設計
- C-band AlGaN/GaN HEMTs with 170W Output Power