LiNbO_3基板上におけるCr_2O_3薄膜の結晶成長(材料デバイスサマーミーティング)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
c面およびr面LiNbO_3(LNO)基板のアニール最適条件探索を行った。c面では温度700℃〜950℃、5〜12時間、r面では温度700℃〜1050℃、3〜24時間大気中でアニールを行った。c面において、5時間では1000℃以上で湾曲したステップ-テラス構造を確認した。12時間では800℃以上で湾曲したステップおよびバンチングステップを確認した。また基板表面に約6.2nmの背の高い微粒子が析出していた。この微粒子の数は、アニール温度が高くなるにつれて減少していた。r面では、アニール時間が5時間以下、もしくはアニール温度が1000℃以上では、針状のステップができることが分かった。700℃ではファセット状のステップおよび数段(約10%)のバンチングステップを確認した。800℃では、直線状のステップおよびバンチングステップを確認した。900℃では階段状のステップを確認した。900℃、12時間でアニールしたr面LNO基板上にCr_2O_3薄膜を成膜した。幅約0.4μm,長さ約4μm以上の一方向に長い一軸異方性を持ったグレインが成長し、グレイン間に約58nmの深い溝が発生していた。ひとつのグレイン表面だけを見ると、nmオーダーで平坦であった。
- 2013-06-14
著者
関連論文
- 超伝導デバイス応用を目指した「界面超伝導」への期待(材料, 一般)
- ディッピング法によって溶液から析出するC_結晶成長 : ハイパフォーマンス・ナノスケール電界効果型C_トランジスタの簡易作製を目指して(薄膜プロセス・材料,一般)
- RFマグネトロンスパッタ法によるCr_2O_3薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- 超伝導デバイス応用を目指した電気磁気効果を示す酸化物薄膜の作製(デジタル,一般)
- 23aPS-2 Cr_2O_3薄膜のエピタキシャル成長(23aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
- スターリング型パルス管冷凍機の特性試験(パルス管冷凍機,熱音響機器及び関連要素と応用システム(2))
- 高温超伝導ランプエッジ型ジョセフソン接合作製におけるランプ形状の最適化
- C-8-17 小型パルス管冷凍機を用いた高温超伝導ジョセフソン高周波検出システム(C-8.超伝導エレクトロニクス)
- 小型パルス管冷凍機に搭載した高温超伝導ジョセフソン接合のノイズ特性
- スターリング式パルス管冷凍機の試作
- 多層蓄冷器を用いた小型パルス管冷凍機の特性
- パルス管冷凍機用イナータンスチューブの周波数特性
- JJ素子冷却のためのパルス管冷凍機
- 8-214 多様化する新入生を対象とした物造り精神覚醒のための日大理工ECSメソッド(口頭発表論文,(6)工学教育の個性化・活性化-V)
- 大型スターリング型パルス管冷凍機の開発(4) : 蓄冷器の特性
- 大型スターリング型パルス管冷凍機の開発(3)
- 大型スターリング型パルス管冷凍機の開発(2)
- 大型スターリング型パルス管冷凍機の開発
- G-M冷凍機直冷式NbTi超伝導マグネット
- 電解によるC60化合物の合成
- C60誘導体の自己組織単分子膜の作製
- 針状フラーレン凝集体合成プロセスの開発(薄膜プロセス・材料,一般)
- Alq_3/PEDOTを用いたスピンコート法による2層低分子有機EL薄膜の簡易作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- 液液界面析出したC_の光励起ポリマー形成
- 化学気相成長法による単層カーボンナノチューブの作製とカイラリティ分布 : 成膜中自由電子レーザー照射によるカイラリティ制御(有機・薄膜デバイス,一般)
- 分子ナノデバイス実現へ向けたC_超薄膜形成
- 分子ナノデバイス実現へ向けたC_超薄膜形成(有機超薄膜と有機デバイス, 一般)
- 単結晶基板上に形成されたナノ構造フラーレン集合体(電子部品・材料,及び一般)
- 再蒸発法によるC_超薄膜ナノ構造(薄膜プロセス・材料,一般)
- C_低次元ナノ構造超薄膜の形成(電子部品・材料, 及び一般)
- Zn-Ga-Oスパッタ薄膜の構造及び低速電子線励起発光特性
- Zn-Ga-Oスパッタ薄膜の構造及び低速電子線励起発光特性
- Zn-Ga-Oスパッタ薄膜の構造及び低速電子線励起発光特性
- Arプラズマを用いたYBaCuO積層型接合の作製
- 10th International Super conductive Electronics Conference [ISEC'05]
- 可視及び近赤外自由電子レーザー励起による単層カーボンナノチューブの成長中カイラリティ制御
- 自由電子レーザ照射による単層カーボンナノチューブの成長中カイラリティ制御(有機薄膜・複合膜とデバイス応用,一般)
- 電気磁気効果実現を目指したCr_2O_3スパッタ薄膜作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- C-6-1 サファイア基板上でのCr_2O_3スパッタ薄膜のエピタキシャル成長(C-6. 電子部品・材料,一般セッション)
- ディップコートしたFeMo及びFePtナノ粒子触媒を用いたCVD法によるカーボンナノチューブの成長(薄膜プロセス・材料,一般)
- サファイア基板及び白金電極上のCr_2O_3スパッタ薄膜の結晶成長(薄膜プロセス・材料,一般)
- フラーレン光重合プロセスの開発
- フラーレン光重合プロセスの開発(機能性有機薄膜,一般)
- DCプラズマ援用CVDを用いた触媒薄膜断面における垂直配向CNT成長
- 19pPSB-44 1光子・多光子レーザー励起法による金属酸化物結晶の改質I(ポスターセッション,領域5,光物性)
- Ni/Mo層上におけるカーボンナノチューブの成長制御(薄膜プロセス・材料,一般)
- Ni/Mo層上におけるカーボンナノチューブの成長制御
- C60薄膜の低次元ナノ構造
- C_誘導体自己組織単分子膜の作製と評価
- 全工程 MOCVD 法によるジョセフソン接合の作製
- 全工程MOCVD法によるジョセフソン接合の作製(マイクロ波超伝導/一般)
- 全工程MOCVD法によるジョセフソン接合の作製(マイクロ波超伝導/一般)
- SCE2000-11 / MW2000-75 MgO単結晶基板の表面処理
- SCE2000-11 / MW2000-75 MgO単結晶基板の表面処理
- MOCVD法によるホモエピタキシャルYBa_2Cu_3O_x薄膜の作製と評価
- スパッタによる伝導性Re酸化物薄膜の作製
- Re酸化物薄膜の発色と伝導性
- 非c軸配向YBCO膜の表面構造・電子状態
- 液相プロセスによるフラーレン集合体の組織・構造観察
- 金属内包フラーレン
- ボルタンメトリーによるフラーレン薄膜の評価
- 電解重合によるA1C60膜の合成
- CPM2000-87 真空蒸着法によるC60超薄膜の作製
- 電界効果型エレクトロクロミー
- C60巨大針状組織の観察
- C60薄膜の電界効果をめざして
- フタロシアニンの電界応答性クロミズムの検討
- CS-6-3 LB法によるフタロシアニン誘導体高配向分子膜の累積(CS-6.薄膜の高機能発現をともなう低温成膜技術の最前線,シンポジウム)
- スパッタ法によるReO_3/SrCuO_2積層膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- スパッタ法によるReO_3/SrCuO_2積層膜の作製
- 室温超伝導を目指した有機分子/金属超薄膜界面
- CuO層をベースとした多重積層スパッタ膜の作製
- 面内配向単層カーボンナノチューブの自由電子レーザー照射効果
- 単層カーボンナノチューブの選択的成長手法の確立によるナノスケールトランジスタへの応用(有機ナノ材料・構造制御,デバイス応用,一般)
- 4-108 一般大学における聴覚障害学生への教育支援((04)工学教育の個性化・活性化-II,口頭発表)
- DC-RFマグネトロンスパッタ法におけるCr_2O_3薄膜の作製
- グラフェン層間化合物の作製と評価(薄膜プロセス・材料,一般)
- 単層カーボンナノチューブの選択的成長手法の確立によるナノスケールトランジスタへの応用
- 大規模イベントを対象としたAndroid端末向け情報配信システムの開発と評価(研究速報,通信サービス,ヒト・モノ・データをつなげるインターネットアーキテクチャ論文)
- RFIDによるオオミズナギドリ生態観測センサネットワークの開発と評価(センサネットワーク,ヒト・モノ・データをつなげるインターネットアーキテクチャ論文)
- 擬似ストリーミングによる映像監視ネットワークの開発と評価(モバイル/クラウドネットワーク,スマートグリッド,一般)
- Android端末への無線LANマルチキャストによる情報配信システムの開発と評価(モバイル/クラウドネットワーク,スマートグリッド,一般)
- 1-106 聴覚障害者学生支援を目指した3次元CAD資格取得支援用eLearnlng教材開発((10)e-ラーニング)
- LiNbO_3基板上におけるCr_2O_3薄膜の結晶成長(材料デバイスサマーミーティング)
- 強磁性(FM)金属/c-,r-oriented Cr_2O_3積層膜による結晶構造解析と磁気特性(材料デバイスサマーミーティング)
- 表面処理によるC_ウィスカーの成長位置制御と電気特性(材料デバイスサマーミーティング)
- 化学気相成長法による単層カーボンナノチューブの配向制御とカイラリティ制御(材料デバイスサマーミーティング)
- LiNbO_3基板上におけるCr_2O_3薄膜の結晶成長(材料デバイスサマーミーティング)
- 強磁性(FM)金属/c-,r-oriented Cr_2O_3積層膜による結晶構造解析と磁気特性(材料デバイスサマーミーティング)
- 表面処理によるC_ウィスカーの成長位置制御と電気特性(材料デバイスサマーミーティング)
- 化学気相成長法による単層カーボンナノチューブの配向制御とカイラリティ制御(材料デバイスサマーミーティング)
- LiNbO_3基板上におけるCr_2O_3薄膜の結晶成長(材料デバイスサマーミーティング)
- 強磁性(FM)金属/c-,r-oriented Cr_2O_3積層膜による結晶構造解析と磁気特性(材料デバイスサマーミーティング)
- 表面処理によるC_ウィスカーの成長位置制御と電気特性(材料デバイスサマーミーティング)
- 化学気相成長法による単層カーボンナノチューブの配向制御とカイラリティ制御(材料デバイスサマーミーティング)
- 単層カーボンナノチューブ品質向上を目指したコールドウオール化学気相成長装置の基板ヒーター開発
- 面内配向単層カーボンナノチューブの自由電子レーザー照射効果
- 単層カーボンナノチューブの選択的成長手法の確立によるナノスケールトランジスタへの応用
- DC-RFマグネトロンスパッタ法におけるCr_2O_3薄膜の作製