グラフェン層間化合物の作製と評価(薄膜プロセス・材料,一般)
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概要
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本研究の目的はCVD法によって単層グラフェンを作製すること,そしてグラファイトあるいは低層グラフェンのFeCl_3インタカレート化合物(それぞれFeCl_3-GIC,FeCl_3-FLGICと呼ぶ)を合成することにある.Cu箔上にCVD成膜した試料は,ラマンスペクトルのGピークと2Dピークの強度比の反転と2Dピークの低波数側へのシフトが観測され,単層グラフェンであった.FeCl_3インタカレートは石英管中の気相法によって行われた.XRDパターンからFeCl_3-GICのピークが確認され,ラマンスペクトルではGピークの高波数側の1606cm^<-1>と1626cm^<-1>にインターカレート相に起因すると思われる新たなピークが観測されたことから,FeCl_3-GICの合成に成功したと思われる.低層グラフェンへのインタカレート試料においては,Gピークの高波数側,1626cm^<-1>にピークが現れ,高濃度にFeCl_3がインターカレートしたFLGICが得られたと結論された.さらに,ラマンピーク強度比,インターカレーションピーク/Gピークの波数依存性の経験値から判断すると,低層グラフェンの層間にはGICのstage2以上の状態で,FeCl_3が高濃度にインタカレートされていることが結論された.
- 2012-10-19
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