スパッタによる伝導性Re酸化物薄膜の作製
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概要
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我々は新規高温超伝導体を作製するために、キャリア供給層を備えた積層膜を提案した。キャリア供給層としてReイオンの多原子価性に着目しRe酸化物薄膜を選んだ。Re酸化物薄膜はRFスパッタリングによって作製された。ReO_3薄膜の電気抵抗率はアニール温度200℃で作製したとき最小の値を示し、室温において10^-4ΩcmでありReO_3単結晶の10倍の値となった。電気抵抗率の温度依存性から、ReO_3薄膜は金属的であることが示された。しかしながら、NdBa_2Cu_3O_6/ReO_3積層膜上で超伝導は観察されなかった。また、120K付近において近藤効果によると思われる抵抗極小が現れた。
- 2002-11-06
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