中村 拓未 | 日本大学理工学部
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概要
関連著者
著作論文
- DC-RFマグネトロンスパッタ法におけるCr_2O_3薄膜の作製
- 強磁性(FM)金属/c-,r-oriented Cr₂O₃積層膜による結晶構造解析と磁気特性 (機構デバイス)
- 強磁性(FM)金属/c-,r-oriented Cr₂O₃積層膜による結晶構造解析と磁気特性 (電子部品・材料)
- 強磁性(FM)金属/c-,r-oriented Cr₂O₃積層膜による結晶構造解析と磁気特性 (有機エレクトロニクス)
- LiNbO₃基板上におけるCr₂O₃薄膜の結晶成長 (電子部品・材料)
- LiNbO₃基板上におけるCr₂O₃薄膜の結晶成長 (有機エレクトロニクス)
- LiNbO_3基板上におけるCr_2O_3薄膜の結晶成長(材料デバイスサマーミーティング)
- 強磁性(FM)金属/c-,r-oriented Cr_2O_3積層膜による結晶構造解析と磁気特性(材料デバイスサマーミーティング)
- LiNbO_3基板上におけるCr_2O_3薄膜の結晶成長(材料デバイスサマーミーティング)
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