OS1211 ナノインデンテーションによる錫ウィスカ発生評価(ナノ・マイクロからの視点からの変形と破壊の力学(2),オーガナイズドセッション)
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概要
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本論文は,ナノインデンテーション法によるウィスカ発生メカニズムの解明を目的としている.応力を駆動力とした原子輸送によってもたらされる錫ウィスカが成長するためには,外部駆動力が表面エネルギの増大分を超えることが必要条件となる.提案したウィスカ形成モデルでは,応力の閾値はウィスカ径に依存する.ナノインデンテーション試験を用いて,局所領域での負荷が制御された状態でウィスカ形成評価を実施した.有限要素解析より得られる応力は,提案したモデルと良い一致を示している.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2008-09-16
著者
-
于 強
横浜国立大学大学院工学研究院システムの創生部門システムのデザイン分野
-
于 強
横浜国立大学
-
于 強
横国大
-
澁谷 忠弘
横浜国立大学
-
澁谷 忠弘
横浜国大
-
Yu Qiang
Department Of Mechanical Engineering And Materials Science Yokohama National University
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