Effects of Hydrogen and Bias on Single-Crystal Al Growth on Vicinal Si by DC Magnetron Sputtering
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1994-01-30
著者
-
小柳 光正
東北大学大学院工学研究科機械知能工学専攻知能システム設計学研究室
-
YOKOYAMA Seiji
School of Material Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology
-
YOKOYAMA Shin
Research Center for Nanodevices and Systems, Hiroshima University
-
Yokoyama Seiji
School Of Material Science Japan Advanced Institute Of Science And Technology
-
Koyanagi Mitsumasa
Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University
-
Yokoyama Shin
Research Center For Integrated Systems Hiroshima University
-
Yokoyama S
Research Center For Nanodevices And Systems Hiroshima University
-
ICHIKAWA Hiroshi
Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University
-
ICHIKAWA Yoshiyuki
Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University
-
Koyanagi Mitsumasa
Research Center For Integrated Systems Hiroshima University
-
Yokoyama S
Kyushu Univ. Fukuoka Jpn
-
Ichikawa Yoshiyuki
Research Center For Integrated Systems Hiroshima University
-
Ichikawa H
Univ. Tsukuba Ibaraki Jpn
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