Ultrashallow Junction Formation by Rapid Thermal Annealing of Arsenic-Adsorbed Layer
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 2000-01-15
著者
-
小柳 光正
東北大学大学院工学研究科機械知能工学専攻知能システム設計学研究室
-
KURINO Hiroyuki
Department of Machine Intelligence and Systems Engineering, Tohoku University
-
KOYANAGI Mitsumasa
Department of Machine Intelligence and Systems Engineering, Tohoku University
-
Park Ki-tae
Halo Lsi Inc.:tohoku University
-
KURINO Hiroyuki
Tohoku University
-
PARK Ki-Tae
Department of Machine Intelligence and Systems Engineering, Tohoku University
-
SONG Yun-Heub
Department of Machine Intelligence and Systems Engineering, Tohoku University
-
Song Yun-heub
Department Of Machine Intelligence And Systems Engineering Tohoku University
-
Kurino H
Dept. Of Bioengineering And Robotics Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
Koyanagi Mitsumasa
Department Of Bioengineering And Robotics Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
Kurino H
Tohoku University
-
Kurino Hiroyuki
Department Of Bioengineering And Robotics Graduate School Of Engineering Tohoku University
-
Song Yun-Heub
Department of Electronic Engineering, Hanyang University, Seoul 133-791, Korea
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