原料交互塗布によるチタン酸ビスマス薄膜の特性(物性,成膜,加工,プロセス : 強誘電体薄膜とデバイス応用)
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概要
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有機金属分解(MOD)法において原料溶液を交互に塗布することにより,チタン酸ビスマス(Bi_4Ti_3O_<12>)薄膜をシリコン基板上に形成した.通常法では,高温焼成が必要であったが,原料の交互供給を行ない,結晶処理前に元素配列を人為的に作成することで,薄膜形成温度の低下を実現した.表面微細構造の検討から,薄膜/基板界面に存在するBi元素が,結晶核形成に有効に寄与しているものと思われる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-03-11
著者
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