原料交互供給法によるチタン酸ビスマス薄膜の作成
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概要
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シリコン基板上に有機金属分解(MOD)法によりチタン酸ビスマス(Bi_4Ti_3O_12)薄膜を形成した.通常法では,高温焼成が必要であったが,原料交互供給を行なうことで結晶処理前に元素配列を人為的に作成した.この原料交互供給法を用いることにより,薄膜形成温度の低下を実現することができる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-12-13
著者
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