山口 正樹 | 芝浦工業大学工学部電子工学科
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概要
関連著者
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山口 正樹
芝浦工業大学工学部電子工学科
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増田 陽一郎
八戸工業大学
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増田 陽一郎
八戸工大 工
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増田 陽一郎
八戸工業大学工学部知能システム工学科
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長友 隆男
芝浦工業大学工学部
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長友 隆男
芝浦工業大学 工学部:芝浦工業大学 先端工学研究機構
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長友 隆男
芝浦工業大学
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山本 麻
芝浦工業大学 工学部 電子工学科
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田中 哲也
芝浦工業大学工学部
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長島 奨
芝浦工業大学工学部
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平木 康嗣
芝浦工業大学 工学部 電気工学科
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平木 康嗣
芝浦工業大学工学部電気工学科
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大本 修
芝浦工業大学工学部電子工学科
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大本 修
芝浦工業大学
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大場 友裕
芝浦工業大学工学部電子工学科
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前田 慎弥
芝浦工業大学工学部電子工学科
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大場 友弘
芝浦工大
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佐藤 嘉國
芝浦工業大学工学部二部電気工学科
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YAMAGUCHI Masaki
Faculty of Engineering, Shibaura Institute of Technology
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MASUDA Yoichiro
Faculty of Engineering, Hachinohe Institute of Technology
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川鍋 賢祐
芝浦工業大学工学部電子工学科
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Yamaguchi Masaki
Faculty Of Engineering Toyama University
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Masuda Yoichiro
Faculty Of Engineering Hachinohe Institute Of Technology
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渡辺 和貴
芝浦工業大学工学部電子工学科
著作論文
- 強誘電体インクの安定性改善(シリコン関連材料の作製と評価)
- アルコール系原料を用いた強誘電体膜の電気的特性評価(シリコン関連材料の作製と評価)
- アルコール系溶液による強誘電体薄膜特性の焼成条件依存性(シリコン関連材料の作製と評価)
- インクジェット法におけるパターン形状の改善(シリコン関連材料の作製と評価)
- インクジェット法によるビスマス系強誘電体薄膜の作製(半導体Si及び関連材料・評価)
- 白金上チタン酸ビスマス薄膜における過剰ビスマス添加効果(新型不揮発性メモリ)
- 白金上チタン酸ビスマス薄膜における過剰ビスマス添加効果
- BIT薄膜に及ぼす下部Pt電極の安定性(シリコン関連材料の作製と評価)
- チタン酸ビスマス薄膜の作製におけるシリコン添加効果(半導体Si及び関連材料・評価)
- Preparation of Bismuth Titanate Thin Films by Alternately Applying Metal-Organic Decomposition and Their Properties
- 原料交互塗布によるチタン酸ビスマス薄膜の特性(物性,成膜,加工,プロセス : 強誘電体薄膜とデバイス応用)
- 原料交互供給法によるチタン酸ビスマス薄膜の作成
- イリジウム錯体を用いた有機EL素子
- イリジウム錯体を用いた有機EL素子
- イリジウム錯体を用いた有機EL素子
- Bi_4Ti_3O_12薄膜組成によるMFIS構造の特性
- Bi_4Ti_3O_/Bi_2SiO_5/Si構造に及ぼすBi組成の影響
- 分子分散型有機電界発光素子の白色発光
- Bi_2SiO_5薄膜物性に及ぼすBi組成の効果
- MOD法によるBi_2SiO_5薄膜の低温作製と諸特性
- Bi_2SiO_5/Si構造の作成とその評価
- Bi_2SiO_5/Si構造の作成とその評価
- Si基板上に形成したBi_2SiO_5薄膜の特性(半導体Si及び関連電子材料評価)
- 分子分散型有機EL素子の高効率化
- シリコン基板上へのチタン酸ビスマス薄膜の形成と評価
- Bi_4Ti_3O_薄膜の低温形成とその膜特性
- 高c軸配向Bi_4Ti_3O_薄膜の作製と評価
- プロトンビームを用いた強誘電体微構造の作製(シリコン関連材料の作製と評価)