プロトンビームを用いた強誘電体微構造の作製(シリコン関連材料の作製と評価)
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概要
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次世代の微細加工手法であると考えられるプロトンビーム照射により,強誘電体膜へのパターン描画について検討を行なった.感光基を有するオクチル酸金属塩を原料として利用することで,750℃焼成膜において比較的平坦なc軸配向を得た.この前駆体膜に対するプロトンビーム照射において,マイクロパターンが形成されることが確認できた.
- 2012-11-30
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