増田 陽一郎 | 八戸工業大学工学部知能システム工学科

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概要

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関連著者

• 山口 正樹

  芝浦工業大学工学部電子工学科

• 増田 陽一郎

  八戸工業大学工学部知能システム工学科

• 増田 陽一郎

  八戸工業大学

• 増田 陽一郎

  八戸工大 工

• 長友 隆男

  芝浦工業大学工学部

• 長友 隆男

  芝浦工業大学 工学部:芝浦工業大学 先端工学研究機構

• 長友 隆男

  芝浦工業大学

• 山本 麻

  芝浦工業大学 工学部 電子工学科

• 平木 康嗣

  芝浦工業大学 工学部 電気工学科

• 平木 康嗣

  芝浦工業大学工学部電気工学科

• 大場 友弘

  芝浦工大

• 佐藤 嘉國

  芝浦工業大学工学部二部電気工学科

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著作論文

• アルコール系原料を用いた強誘電体膜の電気的特性評価(シリコン関連材料の作製と評価)
• アルコール系溶液による強誘電体薄膜特性の焼成条件依存性(シリコン関連材料の作製と評価)
• インクジェット法におけるパターン形状の改善(シリコン関連材料の作製と評価)
• インクジェット法によるビスマス系強誘電体薄膜の作製(半導体Si及び関連材料・評価)
• 白金上チタン酸ビスマス薄膜における過剰ビスマス添加効果(新型不揮発性メモリ)
• 白金上チタン酸ビスマス薄膜における過剰ビスマス添加効果
• BIT薄膜に及ぼす下部Pt電極の安定性(シリコン関連材料の作製と評価)
• チタン酸ビスマス薄膜の作製におけるシリコン添加効果(半導体Si及び関連材料・評価)
• 原料交互塗布によるチタン酸ビスマス薄膜の特性(物性,成膜,加工,プロセス : 強誘電体薄膜とデバイス応用)
• 原料交互供給法によるチタン酸ビスマス薄膜の作成
• Bi_4Ti_3O_12薄膜組成によるMFIS構造の特性
• Bi_4Ti_3O_/Bi_2SiO_5/Si構造に及ぼすBi組成の影響
• Bi_2SiO_5薄膜物性に及ぼすBi組成の効果
• MOD法によるBi_2SiO_5薄膜の低温作製と諸特性
• Bi_2SiO_5/Si構造の作成とその評価
• Bi_2SiO_5/Si構造の作成とその評価
• Si基板上に形成したBi_2SiO_5薄膜の特性(半導体Si及び関連電子材料評価)

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