Ge/Siセグリゲーションの中速イオン散乱による観察
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概要
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- 日本表面科学会の論文
- 2001-03-10
著者
-
伊藤 智徳
三重大学工学部理工学科
-
住友 弘二
NTT物性科学基礎研究所 機能物質科学研究部 分子生体機能研究グループ
-
白石 賢二
NTT物性科学基礎研究所
-
荻野 俊郎
横国大
-
小林 慶裕
阪大
-
荻野 俊郎
横浜国立大学大学院工学研究院
-
住友 弘二
Ntt物性科学基礎研究所
-
白石 賢二
筑波大学数理物質科学研究科物質創成先端科学専攻
-
伊藤 智徳
Nttシステムエレクトロニクス研究所
-
荻野 俊郎
NTT物性基礎研
-
小林 慶裕
NTT物性基礎研
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