半導体表面の原子構造デザイン
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概要
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かって手探りといわれた半導体表面の原子構造に関する理解は,各種の観察・解析技術の進歩により急速に進み,それとともに,表面を舞台とするナノ構造の自己形成が半導体技術に大きなインパクトを与える可能性も生まれてきた.このためには,原子スケールで制御されるナノ構造をウェーハスケールで集積化する技術が必要である.ここで登場してきたのが,表面の原子構造を広い領域でデザインするという概念である.表面構造には原子ステップ,表面再構成及びそのドメイン,原子種と結合状態などが含まれる.本解説では,人工的にあるいは自己組織的に,それらの表面構造をデザインする方法と,その基礎となる物理現象を述べ,具体例を紹介する.
- 社団法人日本物理学会の論文
- 2001-02-05
著者
-
荻野 俊郎
横国大
-
荻野 俊郎
横浜国立大学大学院工学研究院
-
本間 芳和
日本電信電話(株)ntt物性科学基礎研究所
-
本間 芳和
Ntt物性基礎研
-
本間 芳和
東理大
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本間 芳和
Ntt物性科学基礎研究所
-
荻野 俊郎
NTT物性基礎研
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