構造制御した固体基板上グラフェンの評価と加工(<特集>グラフェンの成長と応用)
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概要
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グラフェンは柔軟性が高く基板表面の原子レベルの構造によっても容易に変形し電気特性に影響を与えるので,電子デバイス応用では基板の選択は重要である.サファイアは絶縁性が高く,原子レベルで平坦なテラスと規則的に配列したステップからなる表面を作製できる.この表面には,グラフェンまたは数層グラフェンを密着性よく貼り合わせることができる.グラフェン上に触媒金属ナノ粒子を形成し,水素雰囲気中で熱処理するとエッチングが起こり,トレンチが形成される.厚い数層グラフェンではグラフェンの結晶学的方位にエッチングが進行するが,薄くなるにつれて基板のステップやドメイン構造に沿ったエッチングが支配的となる.すなわち,洗練された単結晶基板表面の構造制御により,グラフェンの加工が可能となる.
著者
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荻野 俊郎
横浜国立大学工学府物理情報工学専攻
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荻野 俊郎
横浜国立大学大学院工学研究院
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塚本 貴広
横浜国立大学大学院工学研究院
-
荻野 俊郎
横浜国立大学
-
荻野 俊郎
横浜国立大学 大学院工学研究院
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塚本 貴広
横浜国立大学 大学院工学府
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塚本 貴広
横浜国立大学
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