プラズマCVD法によるZnO透明導電薄膜
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概要
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酸化亜鉛薄膜は透明電極, 紫外発光レーザー材料として注目されている材料である.プラズマCVD法により, DEZと酸素とからノンドープ酸化亜鉛薄膜を作成した.その結果, 基板温度が300℃以上でc-軸配向した.薄膜は時間とともに三角錐状晶から積層した六角板状晶へと成長した.最小抵抗率は4.55×10<SUP>-3</SUP>Ω・cmであった.
- 社団法人 化学工学会の論文
- 1999-05-10
著者
-
清水 勝
姫路工業大学大学院工学研究科電気系工学専攻
-
近藤 和夫
岡山大学工学部
-
田中 善之助
岡山大学工学部
-
田中 善之助
岡山大学工学部物質応用化学科
-
Shimizu M
Advanced Industrial Science And Technology (aist) Power Electronics Research Center
-
Shimizu Mitsuaki
Power Electronics Research Center National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology
-
近藤 和夫
大阪府大 大学院工学研究科
-
石山 敬造
岡山大学工学部 精密応用化学
-
田中 善之助
岡山大 工
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