ビア充てんめっきの形状支配因子

概要

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硫酸銅-硫酸のめっき液のカソード分極曲線に基づき, ビァ穴埋め機構について検討した。カソード分極曲線は, Tafel, 拡散律速, 水素発生の3つの領域に分類される。Tafel領域(-80mV)では, ビア中央部が完全に埋まらず中央部に細く深いくぽみを生じた。拡散律速領域(-300mV)では, Pe数が0.0でビアは埋まらないが, 83.0で完全に埋まった。水素発生領域(-700mV)では, ビア内部にくぽみを生じ, ビアは埋まらなかった。カソード分極曲線により分類された3つの領域に対し, 添加剤を加えてビア穴埋めを行った。Tafel, 拡散律速領域では, ビアは完全に埋まった。一方, 水素発生領域では, ビアは埋まらなかった。Cl^- +PEGの添加剤を基本とし, JGBとSPSを加えていき, カソードでの分極測定を行った。Cl^- +PEGを加えるとカソード分極が大きぐなり, めっきの析出反応の抑制効果が大きくなった。
社団法人エレクトロニクス実装学会の論文
2001-01-01