長谷 卓 | NECシステムデバイス研究所
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
長谷 卓
NECシステムデバイス研究所
-
高橋 健介
NECシステムデバイス研究所
-
辰巳 徹
NECシステムデバイス研究所
-
高橋 健介
日本電気株式会社
-
辰巳 徹
日本電気株式会社
-
田辺 伸広
NECエレクトロニクス株式会社生産事業本部先端プロセス事業部
-
小林 壮太
NEC
-
前島 幸彦
NECシリコンシステム研究所
-
五十嵐 信行
NEC(株)システムデバイス研究所
-
五十嵐 多恵子
日本電気(株)システムデバイス研究所
-
五十嵐 信行
日本電気株式会社システムデバイス研究所
-
五十嵐 信行
NECシステムデバイス研究所
-
間部 謙三
NECシステムデバイス研究所
-
望月 康則
Necシステムデバイス研究所
-
五十嵐 多恵子
NECシステムデバイス研究所
-
吉原 拓也
NECシステムデバイス研究所
-
渡部 平司
NECシステムデバイス研究所
-
間部 謙三
日本電気株式会社
-
竹内 常雄
NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所
-
斉藤 忍
NECシステムデバイス研究所
-
中島 務
日本電気株式会社マイクロエレクトロニクス研究所 超高集積回路研究部
-
笠井 直記
NECエレクトロンデバイス先端デバイス開発本部
-
松木 武雄
Necマイクロエレクトロニクス研究所
-
山田 淳一
Necエレクトロニクス株式会社第二開発事業本部第四システムlsi事業部
-
小池 洋紀
NECエレクトロニクス株式会社第二開発事業本部第四システムLSI事業部
-
豊島 秀雄
NECエレクトロニクス株式会社生産事業本部先端プロセス事業部
-
三輪 達
NECシリコンシステム研究所
-
奈倉 健
NEC
-
天沼 一志
NECシリコンシステム研究所
-
宮坂 洋一
NEC基礎研究所
-
三輪 達
日本電気(株)シリコンシステム研究所
-
小池 洋紀
日本電気(株)シリコンシステム研究所
-
豊島 秀雄
日本電気(株)シリコンシステム研究所
-
森 秀光
日本電気(株)
-
田辺 伸広
日本電気(株)
-
清家 綾
日本電気(株)
-
竹内 英代
日本電気(株)
-
山田 純一
日本電気(株)
-
前島 幸彦
日本電気(株)
-
辰巳 徹
日本電気(株)
-
小林 壮太
日本電気(株)
-
奈倉 健
日本電気(株)
-
杉山 秀樹
日本電気(株)
-
笠井 直記
日本電気(株)
-
長谷 卓
日本電気(株)
-
波田 博光
日本電気(株)
-
小倉 卓
Necエレクトロニクス株式会社
-
小倉 卓
(株)genusion
-
國尾 武光
Necマイクロエレクトロニクス研究所
-
波田 博光
日本電気(株)システムデバイス・基礎研究本部シリコンシステム研究所
-
斎藤 忍
Necエレクトロニクスlsi基礎開発研究所
-
林 喜宏
半導体MIRAI-ASET
-
田辺 伸広
NECマイクロエレクトロニクス研究所
-
斉藤 忍
NECマイクロエレクトロニクス研究所
-
竹内 常雄
NECマイクロエレクトロニクス研究所
-
小林 壮太
NECマイクロエレクトロニクス研究所
-
前島 幸彦
NECマイクロエレクトロニクス研究所
-
中島 務
NECマイクロエレクトロニクス研究所
-
林 喜宏
NECマイクロエレクトロニクス研究所
-
天沼 一志
NEC基礎研究所
-
長谷 卓
NEC基礎研究所
-
林 喜宏
マイクロエレクトロニクス研究所
-
寺井 真之
早稲田大学
-
寺井 真之
日本電気株式会社デバイスプラットフォーム研究所
-
西藤 哲史
NECシステムデバイス研究所
-
寺井 真之
NECシステムデバイス研究所
-
小倉 卓
NECシステムデバイス研究所
-
渡辺 啓仁
NECシステムデバイス研究所
-
竹内 英代
Nec
-
渡辺 啓仁
日本電気株式会社
-
西藤 哲史
日本電気株式会社
-
辰巳 徹
Nec シリコンシステム研
-
Terai Masayuki
Department Of Applied Physics Waseda University
-
笠井 直記
Nec 先端デバイス開発本部
-
林 喜宏
Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所
-
笠井 直記
東北大学
著作論文
- 高疲労耐性を有する96KbitCMVP・FeRAMを搭載したコンタクトレス型スマートカード用LSI
- ビット線上に容量を配置した強誘電体メモリセル構造(F-COB)
- 45nmノード低消費電力デバイス用Ni_xSi/HfSiONゲートスタック構造(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 相制御Niフルシリサイド電極を用いたHfSiON高誘電率ゲート絶縁膜MOSFETの作製と電気特性の評価
- 組成制御Niフルシリサイド電極を用いた低消費電力向けHfSiONゲート絶縁膜MOSFET(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))