その場観察X線回折測定を用いた窒化物半導体の有機金属化合物気相成長(<特集>次世代素子のための窒化物結晶成長新機軸)

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概要

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• 一般的な有機金属化合物気相成長装置で使用されているその場観察装置は,可視光,赤外光を利用することで,表面状態,成長速度,温度,基板の反りなどの観察が可能である.しかしながら,この方法では,結晶表面の情報しか得ることができず,結晶品質や量子井戸などの薄膜構造の解析が困難となる.本研究では,X線回折を利用したその場観察技術を開発し,窒化物半導体の結晶成長を行ったので,その結果を報告する.

著者

• 飯田 大輔

  名城大学理工学研究科

• 岩谷 素顕

  名城大学理工学研究科

• 上山 智

  名城大学理工学研究科

• 赤崎 勇

  名城大学理工学研究科

• 竹内 哲也

  名城大理工

• 竹内 哲也

  名城大学理工学部電気電子工学科

• 上山 智

  名城大学・ハイテクリサーチセンター

• 赤崎 勇

  名城大学・ハイテクリサーチセンター

• 岩谷 素顕

  名城大学・理工学研究科

• 赤崎 勇

  名城大学理工学部電機電子工学科

• 赤★ 勇

  名城大学大学院・理工学研究科:名城大学・ハイテクリサーチセンター

• 上山 智

  名城大学・理工学部

• 竹内 哲也

  名城大学・理工学部

• 飯田 大輔

  名城大学・理工学部

• 岩谷 素顕

  名城大学・理工学部

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