結晶異方性エッチング解析システムMICROCADの開発(<小特集>マイクロマシン関連技術)
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概要
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複雑な3次元構造をもつマイクロマシンデバイスの加エプロセス設計を支援するツールとして, 結晶異方性エッチング解析システムMICROCADを開発した. このシステムは, 被加工材であるシリコン単結晶の全方位のエッチング速度をデータベースとして備えることにより, 任意の結晶方位をもつウェーハ, 任意のマスクパターンに対して, 3次元エッチングプロフィルの時間的変化を解析する機能をもつ. 全方位に対するエッチング速度の測定方法, 解析システムの構成, 3次元エッチングプロフィルの計算方法について述べた. 本システムの適用例として, 補償マスクパターンの設計, ウェーハを貫通してなお進行するエッチング形状の解析, 多段階エッチングプロセスの工程設計の例を示し, このシステムの工程設計における有効性を論じた.
- 1999-03-25
著者
-
佐藤 一雄
名古屋大学大学院工学研究科
-
佐藤 一雄
名古屋大学
-
式田 光宏
名大
-
式田 光宏
名古屋大学
-
浅海 和雄
みずほ情報総研
-
入江 康郎
みずほ情報総研
-
武田 光宏
名古屋大学
-
式田 光宏
名古屋大学 大学院工学研究科
-
浅海 和雄
(株)富士総合研究所
-
小林 元
(株)富士総合研究所
-
入江 康郎
(株)富士総合研究所
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