異方性ウエットエッチングによるモノづくり
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概要
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Anisotropic wet etching process is now widely used in MEMS fabrication. The etching characteristics, mechanism of etch-pit formations on both of {100} and {111} Si surfaces, and micro pyramid formation on the etched {100} surface is described in this review paper. Advanced processes for fabricating complicated 3-D structures by wet etching are also explained.
- 社団法人 電気学会の論文
- 2008-09-01
著者
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