触媒体上でのNF_3ガス分解反応を用いた低コスト・低環境負荷チャンバークリーニング法の開発
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概要
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2400℃程度に加熱したタングステン触媒体上での接触分解反応により生成したNF_3分解種を用いて、単結晶シリコンを3500nm/min、シリコン窒化膜を740nm/min、溶融石英ガラスに関しても50nm/minでエッチング可能であることを示す。また、この手法を用いたチャンバークリーニング実施後のフッ素残渣について調べたところ、120nmのアモルファスシリコン堆積後には少なくともX線光電子分光レベルでは検出されない。このことより、膜堆積からin situ チャンバークリーニングまで触媒CVD(Cat-CVD)一貫プロセスが実施可能であることが示され、Cat-CVD法の実用化に向けて大きな前進が得られた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-10-19
著者
-
和泉 亮
北陸先端科学技術大学院大学
-
松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学
-
増田 淳
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科:(現)産業技術総合研究所
-
西村 悟
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
-
松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科
-
増田 淳
北陸先端大
-
増田 淳
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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