CS-5-7 Cat-CVD法により作製した窒化シリコン膜の特性とデバイス応用(CS-5.ナノスケール時代を迎えた薄膜電子材料の展開,エレクトロニクス2)
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-09-07
著者
-
松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学
-
増田 淳
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科:(現)産業技術総合研究所
-
梅本 宏信
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
-
松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科
-
増田 淳
国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学・材料科学研究科
-
梅本 宏信
国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学・材料科学研究科
-
松村 英樹
国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学・材料科学研究科
-
増田 淳
北陸先端大
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