半導体技術から見たTFT-LCDの将来像
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概要
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半導体産業には2つの大きな流れがある。すなわち、一つはトランジスタの発明と集積回路の発明およびそれにより価値が認識された微細化と機能集積化を目指す流れであり、他の一つは電子写真(コピー機)の発明により始まった大面積デバイスヘの流れである。前者は少しでも良質な結晶と微細加工技術を開発する動きとなり、後者は非晶質や多結晶の半導体など大面積化可能な材料を探求する動きとなった。しばらくは独立に発展を遂げた2つの流れが一つになったのは、1979年、Le Comberらが非晶質シリコン(a-Si)を用いてLCD用TFTを作ることを提唱してからである。つまり、TFT-LCD技術は、第1と第2の流れを結び合わせた第3の流れを作ることにその特徴がある。ここでは、この第3の流れの中身と将来を概観する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-09-18
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