和泉 亮 | 北陸先端科学技術大学院大学
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概要
関連著者
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和泉 亮
北陸先端科学技術大学院大学
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松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科
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松村 英樹
北陸先端科学技術大学院大学
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増田 淳
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科:(現)産業技術総合研究所
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増田 淳
北陸先端大
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増田 淳
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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梅本 宏信
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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三木 翼
北陸先端科学技術大学院大学
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佐々木 公洋
金沢大学大学院 自然科学研究科
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畑 朋延
金沢大学大学院 自然科学研究科
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畑 朋延
独立行政法人科学技術振興機構 研究成果活用プラザ石川
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吉川 明子
北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科
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和泉 亮
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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森本 類
北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科
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河合 賢太郎
金沢大学大学院 自然科学研究科
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蓮 達弘
金沢大学大学院 自然科学研究科
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文珠 康真
金沢大学大学院 自然科学研究科
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西村 悟
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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亀崎 浩司
北陸先端科学技術大学院大学
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工藤 昭吉
北陸先端科学技術大学院大学
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森本 類
ソニー株式会社
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佐々木 公洋
金沢大学大学院自然科学研究科
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工藤 昭吉
三菱電機株式会社高周波光素子事業統括部
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河合 賢太郎
金沢大学大学院自然科学研究科
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佐々木 公洋
金沢大学自然科学研究科
著作論文
- Cat-CVD法を用いた極薄ゲート絶縁膜の形成
- 触媒化学気相成長法 : 最近の進展と今後の展望
- Cat-CVD装置を用いたULSI材料の表面窒化とエッチング
- 制限反応スパッタ法によるZrO_2の成長とゲート絶縁膜特性
- SC-8-6 Cat-CVD法による poly-Si TFT の低温形成とその特性
- Cat-CVD技術の開発状況と応用展開 (特集2 次世代半導体プロセス・材料の課題)
- 触媒体上でのNF_3ガス分解反応を用いた低コスト・低環境負荷チャンバークリーニング法の開発
- 解説 Cat-CVD技術とその応用例として半導体関連での適用事例を紹介 Cat-CVD法による薄膜形成とその応用展開 (特集2 実用化進む最先端半導体製造技術&装置)
- ケミカル・スパッタリング法による巨大粒径poly-Si薄膜の作製
- Cat-CVD法による低温poly-Si膜形成とTFTへの応用
- Cat-CVD SiNx膜の面内均一性向上に関する検討
- 触媒CVD法によるガリウムヒ素表面清浄化とシリコン窒化膜堆積
- 触媒CVD(Cat-CVD)法による低温薄膜形成
- cat-CVD法を用いた薄膜堆積と半導体表面改質
- Cat-CVD装置を用いたULSI材料の表面窒化とエッチング
- Cat-CVD法による低温poly-Si膜形成とTFTへの応用
- 触媒化学気相成長法 : 最近の進展と今後の展望