高異方性磁界を有するFe-Co-B大飽和磁化軟磁性裏打ち層の開発(垂直記録及び一般)

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概要

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大飽和磁化を有するFe-Co-B/Ni-Fe二層膜には200〜400Oeの高い異方性磁界が観測される。膜面内におけるX線回折測定の結果から、困難軸方向と比較して容易軸方向に沿った面間隔が伸張していることが確認された。この面間隔の変化引き起こす異方的な残留内部応力が二層膜における磁気弾性エネルギーに寄与することが高異方性磁界の原因と考えられる。膜作製時のArガス圧と膜の有する異方性磁界H_kとの関係は、膜内部の異方的な残留応力がスパッタ粒子の入射角の偏りにより形成されていることを示唆した。さらに、磁気ディスクの径方向に磁気異方性を配する手法として、ディスクを回転させた状態でのスパッタ法を検討した。これにより、径方向に約280Oeの異方性磁界を有するディスクの作製に成功した。
社団法人電子情報通信学会の論文
2004-07-02

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