高飽和磁化と超高異方性磁界を持つ軟磁性薄膜の作製技術 : 500 Oe以上の異方性磁界を持つFe-Co-B軟磁性薄膜(新技術・新製品)

スポンサーリンク

概要

論文の詳細を見る
超高密度垂直磁気記録媒体では,高い保磁力を持つ記録層を磁化反転させるために強い記録磁界を印加する必要があります.このため高飽和磁化を持つ裏打ち軟磁性層および記録ヘッドの開発が要求されています.さらに,裏打ち層においては,媒体全体の磁化を安定化して低ノイズ性を確保するために高い異方性磁界H_kを持たなければなりません.しかし,これまでに報告されている20kG以上の飽和磁化を持つ薄膜では,異方性磁界は高くても数十Oe程度であり,更なる高飽和磁化と高異方性磁界を持つ薄膜の開発が強く求められています.私たちは対向ターゲット式スパッタ法を用い,堆積粒子の基板への入射方向やシード層の配向性を制御すること等により,22kGの高飽和磁化と5000e以上の超高異方性磁界をあわせ持つFe-Co-B軟磁性薄膜作製に成功しました.
社団法人日本磁気学会の論文
2004-05-01

著者

関連論文

もっと見る

スポンサーリンク