Resonant Tunneling Effect in Si/SiO_2 Double Barrier Structure
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概要
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- 2001-09-25
著者
-
田部 道晴
静岡大学電子工学研究所
-
石川 靖彦
静岡大学電子工学研究所
-
TABE Michiharu
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
-
ISHIKAWA Yasuhiko
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
-
Tabe Michiharu
Research Institue Of Electronics Shizuoka University
-
Ishikawa Yasuhiko
Research Center For Interface Quantum Electronics And Graduate School Of Electronics And Information
-
Ishikawa Yasuhiko
1research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
Ishikawa Y
Research Center For Interface Quantum Electronics And Graduate School Of Electronics And Information
-
Ishikawa Y
Dowa Mining Co. Ltd. Tokyo
-
Ishikawa Y
Department Of Electrical And Electronics Engineering Nippon Institute Of Technology
-
Ishikawa Y
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
-
ISHIHARA Takuma
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
-
IWASAKI Masanori
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
-
Ishihara Takuma
Research Institute Of Electronics Shizuoka University
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