酸素イオン注入 Si 層の結晶性回復と向上 - SIMOX の結晶性向上 -
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概要
著者
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西村 正
三菱電機 (株) Ulsi技術開発センター
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西村 正
三菱電機株式会社ulsi技術開発センター
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山口 泰男
三菱電機株式会社 LSI 研究所
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塚本 克博
三菱電機株式会社 LSI 研究所
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中井 哲弥
三菱マテリアル株式会社中央研究所
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新屋敷 浩
三菱マテリアル株式会社中央研究所
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新行内 隆之
三菱マテリアル株式会社中央研究所
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山口 泰男
三菱電機(株)ulsi開発研究所
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山口 泰男
三菱電機 Ulsi開研
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新屋敷 浩
三菱マテリアルシリコン(株)開発センター
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中井 哲弥
三菱住友シリコン(株)
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中井 哲弥
三菱マテリアルシリコン株式会社技術本部
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西村 正
三菱電機株式会社 Lsi 研究所
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新行内 隆之
三菱マテリアル(株)中央研究所
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