大嶋 則和 | Necデバプラ研

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概要

• 大嶋 則和の詳細を見る
• 同名の論文著者
• Necデバプラ研の論文著者

関連著者

• 大嶋 則和

  Necデバプラ研

• 大嶋 則和

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 小野 輝男

  京大化研

• 小野 輝男

  京都大学化学研究所

• 深見 俊輔

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 石綿 延行

  Necデバプラ研

• 仲谷 栄伸

  電通大情報

• 深見 俊輔

  NECA:東北大

• 大嶋 則和

  NEC機能エレクトロニクス研究所

• 千葉 大地

  京大化研

• 鈴木 哲広

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 谷川 博信

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 小野 輝男

  慶大理工

• 葛西 伸哉

  物質・材料研究機構磁性材料センター

• 谷川 博信

  NECデバプラ研

• 小山 知弘

  京大化研

• 谷川 博信

  京大化研

• 小山 知弘

  京都大学化学研究所

• 石綿 延行

  Necデバイスプラットフォーム研究所

• 葛西 伸哉

  京大化研

• 石綿 延行

  日本電気株式会社 機能デバイス研究所

• 小林 研介

  京大化研

• 上田 浩平

  京大化研

• 大嶋 則和

  Nec

• 永原 聖万

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 山田 元

  京大化研

• 永原 聖万

  NEC機能エレクトロニクス研究所

• 近藤 浩太

  京都大学化学研究所

• 近藤 浩太

  京大化研

• 中野 邦裕

  京大化研

• 中野 邦裕

  京都大学化学研究所

• 三浦 貞彦

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 杉林 直彦

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 杉林 直彦

  Nec Ulsiデバイス開発研究所

• 齊藤 信作

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 根橋 竜介

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 崎村 昇

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 本庄 弘明

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 森 馨

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 斉藤 信作

  日本電気(株)

• 末光 克巳

  日本電気(株)

• 斎藤 信作

  Nec

• 石綿 延行

  Nec

• 鈴木 哲広

  Nec

• 深見 俊輔

  Nec

• 崎村 昇

  NEC グリーンイノベーション研究所

• 石綿 延行

  日本電気株式会社

• 本庄 弘明

  日本電気株式会社グリーンプラットフォーム研究所

• 葛西 伸哉

  物材研

• 齋藤 信作

  日本電気(株)システムデバイス研究所

• 関口 康爾

  京大化研

• 尾崎 康亮

  NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発部

• 坪井 眞三

  NEC機能エレクトロニクス研究所

• 斉藤 信作

  Nec デバイスプラットフォーム研

• 坪井 眞三

  Nec機能デバイス研

• 坪井 真三

  日本電気 機能デバイス研

• 尾崎 康亮

  Necエレクトロニクス株式会社 先端デバイス開発部

• 谷川 博信

  NEC

• 小野 輝男

  大阪大院基礎工

• 五十嵐 忠二

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 波田 博光

  日本電気(株)

• 加藤 有光

  日本電気(株)

• 大嶋 則和

  日本電気(株)

• 法橋 宏高

  Nec機能デバイス研

• 法橋 宏高

  日本電気(株)機能デバイス研究所

• 田上 勝通

  日本電気(株)機能デバイス研究所

• 末光 克巳

  NEC機能エレクトロニクス研究所

• 田上 勝通

  NEC機能エレクトロニクス研究所

• 鈴木 哲広

  NEC 機能エレクトロニクス研究所

• 佐藤 知徳

  電通大情報工

• 山田 啓介

  京都大学化学研究所

• 笠井 直記

  NECエレクトロンデバイス先端デバイス開発本部

• 関口 康爾

  京都大学化学研究所

• 笠井 直記

  日本電気(株)

• 田原 修一

  NEC基礎研究所

• 杉林 直彦

  日本電気(株)

• 根橋 竜介

  日本電気(株)

• 崎村 昇

  日本電気(株)

• 本庄 弘明

  日本電気(株)

• 三浦 貞彦

  日本電気(株)

• 森 馨

  日本電気(株)

• 鈴木 哲広

  日本電気(株)

• 永原 聖万

  日本電気(株)

• 石綿 延行

  日本電気(株)

• 深見 俊輔

  日本電気(株)

• 沼田 秀昭

  日本電気(株)システムデバイス研究所

• 姫野 敦史

  京大化研

• 大嶋 則和

  NECシスデバ研

• 田原 修一

  日本電気(株) システムデバイス研究所

• 田原 修一

  日本電気株式会社

• 田原 修一

  NECシステムデバイス研究所

• 福本 能之

  Necシステムデバイス研究所

• KOBAYASHI Keisuke

  Japan Synchrotron Radiation Research Institute/SPring-8

• 佐藤 知徳

  電通大情報理工

• 笠井 直記

  Nec 先端デバイス開発本部

• 永原 聖万

  Nec

• 小林 研介

  (独) 物質・材料研究機構 共用ビームステーション

• 笠井 直記

  東北大学

• 谷川 博信

  ルネサスエレクトロニクス

• 鈴木 哲広

  ルネサスエレクトロニクス

• 葛西 伸哉

  物材機構

• 大河内 拓雄

  原子力機構放射光

• 天野 実

  (株)東芝研究開発センター

• 大河内 拓雄

  JASRI

• Jamet J.

  パリ南大

• Ferre J.

  パリ南大

• Thiaville A.

  パリ南大

• 千葉 大地

  京都大学化学研究所

• 小林 研介

  京都大学化学研究所

• 木下 豊彦

  高輝度セ

• 波田 博光

  NECシリコンシステム研究所

• 田原 修一

  日本電気(株)基礎研究所

• 河野 浩

  阪大基礎工

• 大橋 啓之

  日本電気(株)

• 大橋 啓之

  NEC

• 木下 豊彦

  NEDO

• 浅尾 吉昭

  東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター 不揮発性メモリデバイス技術開発部

• 與田 博明

  東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター 不揮発性メモリデバイス技術開発部

• 天野 実

  東芝研究開発センター

• 小嗣 真人

  Jasri

• 河野 浩

  東大理

• 山田 啓介

  京大化研

• Thiaville Andre

  パリ南大

• Fischer Peter

  CXRO

• Im Mi-Young

  CXRO

• 河野 浩

  阪大基礎エ

• 木下 豊彦

  Jasri

• 笠井 直記

  Nec システムデバイス研

• 伊藤 雄一

  NECエレクトロニクス(株)

• 小林 洋介

  NECエレクトロニクス(株)

• 木下 啓藏

  日本電気(株)

• 志村 健一

  日本電気株式会社

• 本田 雄士

  日本電気(株)システムデバイス研究所

• 志村 健一

  日本電気(株)システムデバイス研究所

• 辻 清孝

  日本電気(株)システムデバイス研究所

• 福本 能之

  日本電気(株)システムデバイス研究所

• 向井 智徳

  日本電気(株)システムデバイス研究所

• 浅尾 吉昭

  (株)東芝 研究開発センター

• 與田 博明

  (株)東芝 研究開発センター

• 坪井 眞三

  日本電気(株)機能デバイス研究所

• 松寺 久雄

  NEC機能デバイス研究所

• 福本 能之

  NEC

• 沼田 秀昭

  NEC

• 斎藤 美紀子

  NEC機能デバイス研究所

• 大嶋 則和

  NECシリコンシステム研究所

• 石綿 延行

  NEC機能デバイス研究所

• 大橋 啓之

  NEC機能デバイス研究所

• 是成 貴弘

  NEC機能デバイス研

• 鈴木 哲広

  NEC機能デバイス研

• 杉林 直彦

  日本電気・デバイスプラットフォーム研究所

• 永原 聖万

  日本電気 機能デバイス研究所

• 本庄 弘明

  日本電気 機能デバイス研究所

• 石綿 延行

  日本電気 機能デバイス研究所

• 本田 雄士

  Nec基礎研究所

• 與田 博明

  (株)東芝

• 與田 博明

  東芝

• 斎藤 美紀子

  早稲田大学

• 齋藤 美紀子

  Nec・機能エレクトロニクス研究所

• 千葉 大地

  科学技術振興機構erato

• 斎藤 美紀子

  Nec機能エレクトロニクス研究所

• 齋藤 美紀子

  日本電気(株)基礎・環境研究所

• 浅尾 吉昭

  (株)東芝研究開発センター

• 大橋 啓介

  MIRAI-Selete

• 田原 修一

  Nec システムデバイス研

• 小嗣 真人

  広島大学放射光科学研究センター

• 天野 実

  東芝

• 鈴木 哲広

  Nec機能エレクトロニクス研究所

• 是成 貴弘

  大阪大学大学院基礎工学研究科物理系専攻

• Kohno H

  Laboratory Of Ichthyology Tokyo University Of Marine Science And Technology

• Kohno H

  Laboratory Of Ichthyology Tokyo University

• Honda T

  Fukuoka Univ. Fukuoka Jpn

• 石綿 延行

  Necグリーンイノベーション研究所

• 加藤 有光

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 三浦 貞彦

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 深見 俊輔

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 鈴木 哲広

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 大嶋 則和

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 斉藤 信作

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 根橋 竜介

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 崎村 昇

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 森 馨

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 杉林 直彦

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 與田 博明

  東芝 研開セ

• 小嗣 真人

  Jasri/spring-8

• 松寺 久雄

  Nec機能デバイス研

• 平松 亮

  京大化研

• 小嗣 真人

  財団法人高輝度光科学研究センター

• 大嶋 則和

  NECエナジーデバイス

• 深見 俊輔

  NECグリーンイノベーション研究所

• 仲谷 栄伸

  電通大情報理

• 関口 康爾

  慶應大理工

• 石綿 延行

  NEC機能エレクトロニクス研究所

• 大嶋 則和

  ルネサスエレクトロニクス

• 苅屋田 英嗣

  ルネサスエレクトロニクス

• 小嗣 真人

  (公財)高輝度光科学研究センター(SPring-8/JASRI)

• 末光 克巳

  ルネサスエレクトロニクス

• 深見 俊輔

  NECA

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著作論文

• 20pGJ-8 共鳴励起状態を用いた磁気コア極性反転(20pGJ 磁壁,磁化ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 20pGJ-4 垂直磁気異方性を有するCo/Ni細線における複数磁壁電流駆動II(20pGJ 磁壁,磁化ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 20pGJ-2 外部磁場によるCo/Ni細線中の磁壁伝搬観測(20pGJ 磁壁,磁化ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 20pGJ-3 Co/Ni多層膜細線における磁壁電流駆動の積層膜厚および膜厚比率依存性(20pGJ 磁壁,磁化ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 20aPS-28 細線形状制御による磁壁駆動電流密度の低減(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 垂直磁化磁壁移動セルを用いた高速低電流MRAM(低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用)
• SoC混載に適した垂直磁化磁壁移動型MRAM
• 27aRA-8 磁気トンネル接合を用いた磁気渦共鳴運動の実時間測定(磁化ダイナミクス,領域3,磁性,磁気共鳴)
• 27aRA-4 高磁場における単一磁壁の動的挙動(磁化ダイナミクス,領域3,磁性,磁気共鳴)
• 27aRA-5 外部磁場下におけるCo/Ni細線中の磁壁電流駆動(磁化ダイナミクス,領域3,磁性,磁気共鳴)
• 25pPSA-29 垂直磁気異方性を有するCo/Ni細線における複数磁壁電流駆動(領域3ポスターセッション(スピントロニクス・遍歴磁性等),領域3,磁性,磁気共鳴)
• 25pPSA-27 垂直磁気異方性を有するCo/Ni細線の磁気異方性定数の決定(領域3ポスターセッション(スピントロニクス・遍歴磁性等),領域3,磁性,磁気共鳴)
• 28aPS-112 垂直磁気異方性を有するCo/Ni細線への単一磁壁導入(28aPS 領域3ポスターセッション(スピントロニクス・フラストレーション系・実験技術),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 28aPS-108 垂直磁気異方性を有するCo/Ni細線中の磁壁電流駆動現象 : しきい電流密度の低減(28aPS 領域3ポスターセッション(スピントロニクス・フラストレーション系・実験技術),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 27pTF-2 垂直磁気異方性を有するCo/Ni細線中の磁壁電流駆動 : 磁壁移動速度の測定(27pTF 細線・トルク,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 21pQG-8 垂直磁気異方性を有する強磁性細線中の磁壁電流駆動(21pQG スピントロニクス・微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 24aWL-10 垂直磁気異方性を有するCoCrPt細線中の磁壁電流駆動(24aWL 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23aPS-20 垂直磁気異方性を有する強磁性細線中の磁壁電流駆動における細線幅依存性(23aPS ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 24aWL-11 磁気渦ダイナミクスの実時間・実空間分解測定(24aWL 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• MRAMの技術動向、今後の展開、32MbMRAM開発(メモリ技術)
• 4MbMRAMとその応用(新メモリ技術とシステムLSI)
• 垂直2層媒体の記録信号の安定性の外乱磁場方向依存性
• 垂直2層媒体の記録信号の安定性
• 27pTF-1 単一磁壁の動的ダイナミクスの実時間測定(27pTF 細線・トルク,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 27aTF-10 TMR効果を用いた磁気渦共鳴運動の実時間測定II(27aTF スピンホール・磁気渦・ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 24aWL-8 単一磁壁ダイナミクスの実時間観測(24aWL 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23aPS-29 TMR効果を用いた磁気渦ダイナミクスの電気的検出(23aPS ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 21pPSB-74 TMR構造をもつ磁性細線における単一磁壁のダイナミクス(領域3ポスターセッション(フラストレーション,磁気共鳴,実験技術,微小領域),領域3,磁性,磁気共鳴)
• 18pZC-13 TMR構造をもつサブミクロン磁性細線における単一磁壁のダイナミクス II(18pZC 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23pXH-8 TMR構造をもつサブミクロン磁性細線における単一磁壁のダイナミクス(23pXH 微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 高耐熱 Ni_xFe_/Al-oxide/Ta フリー層を用いた強磁性トンネル接合の磁化反転特性
• 電析CoNiFe膜の結晶構造, 膜密度と飽和磁化
• 磁気ディスク媒体の磁化回転分布評価と熱揺らぎ減磁過程
• 電流誘起磁壁移動現象の高速MRAMへの応用
• 21pQG-11 単一磁壁の動的ダイナミクス(21pQG スピントロニクス・微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 21pQG-14 TMR効果を用いた磁気渦ダイナミクスの実時間測定(21pQG スピントロニクス・微小領域磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 垂直2層媒体の記録信号の安定性の外乱磁場方向依存性
• 25aPS-43 Co/Ni細線における磁壁電流駆動の温度依存性(25aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 24aWP-5 磁壁電流駆動における閾電流密度に対する外部磁場の影響(24aWP 磁化ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 垂直磁化磁壁移動セルを用いた高速低電流MRAM(低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用)
• スピン移行トルク磁壁移動を用いた高速磁気ランダムアクセスメモリ
• 28aHF-9 SPELEEMを用いたCo/Ni細線中の電流誘起磁壁移動観察(28aHF スピントロニクス(スピンホール効果,ナノ磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 26aPS-35 Co/Ni細線における磁壁電流駆動の温度依存性II(26aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 25pHF-8 磁気渦共鳴運動の実時間測測定(25pHF スピントロニクス(スピン注入,スピンダイナミクス),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23pRA-5 磁壁電流駆動における閾電流密度に対する外部磁場の影響II(23pRA スピントロニクス(スピントルク・電流誘起ダイナミクス・薄膜・微粒子),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23pRA-4 垂直磁化Co/Ni細線の磁壁電流駆動の温度依存性(23pRA スピントロニクス(スピントルク・電流誘起ダイナミクス・薄膜・微粒子),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 23aRA-7 磁気コア極性反転の制御とメモリ動作(23aRA スピントロニクス(磁化制御・磁化ダイナミクス),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 27aAA-8 磁壁電流駆動を用いたCo/Ni細線におけるスピン分極率の温度依存性(27aAA スピントロニクス(磁気渦・磁壁・磁気抵抗・スピントルク),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 27aAA-3 磁気コア減衰運動の制御(27aAA スピントロニクス(磁気渦・磁壁・磁気抵抗・スピントルク),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 27pXA-4 垂直磁化Co/Ni多層膜における磁壁電流駆動現象の磁性層膜厚依存性(27pXA スピントロニクス(スピン依存伝導),領域3(磁性,磁気共鳴))

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