20aPS-28 細線形状制御による磁壁駆動電流密度の低減(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))

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概要

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• 2010-03-01

著者

• 小野 輝男

  京都大学化学研究所

• 小野 輝男

  京大化研

• 千葉 大地

  京大化研

• 石綿 延行

  Necデバプラ研

• 仲谷 栄伸

  電通大情報

• 深見 俊輔

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 鈴木 哲広

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 大嶋 則和

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 小山 知弘

  京大化研

• 上田 浩平

  京大化研

• 山田 元

  京大化研

• 谷川 博信

  NECデバプラ研

• 大嶋 則和

  NEC機能エレクトロニクス研究所

• 大嶋 則和

  Necデバプラ研

• 石綿 延行

  Necデバイスプラットフォーム研究所

• 石綿 延行

  日本電気株式会社 機能デバイス研究所

• 谷川 博信

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 小山 知弘

  京都大学化学研究所

• 深見 俊輔

  NECA:東北大

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