20pGJ-3 Co/Ni多層膜細線における磁壁電流駆動の積層膜厚および膜厚比率依存性(20pGJ 磁壁,磁化ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))

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概要

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• 2010-03-01

著者

• 小野 輝男

  京都大学化学研究所

• 小野 輝男

  京大化研

• 谷川 博信

  京大化研

• 千葉 大地

  京大化研

• 石綿 延行

  Necデバプラ研

• 仲谷 栄伸

  電通大情報

• 深見 俊輔

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 鈴木 哲広

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 大嶋 則和

  NECデバイスプラットフォーム研究所

• 小山 知弘

  京大化研

• 上田 浩平

  京大化研

• 山田 元

  京大化研

• 谷川 博信

  NECデバプラ研

• 大嶋 則和

  NEC機能エレクトロニクス研究所

• 大嶋 則和

  Necデバプラ研

• 石綿 延行

  Necデバイスプラットフォーム研究所

• 石綿 延行

  日本電気株式会社 機能デバイス研究所

• 谷川 博信

  日本電気 グリーンイノベーション研究所

• 小山 知弘

  京都大学化学研究所

• 深見 俊輔

  NECA:東北大

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