21aQG-5 空間電荷効果によって誘起されたシリコンにおける巨大磁気抵抗効果(21aQG 薄膜・人工格子・表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2008-08-25

著者

• 葛西 伸哉

  物質・材料研究機構磁性材料センター

• 小野 輝男

  京都大学化学研究所

• 葛西 伸哉

  京都大学化学研究所

• 小林 研介

  京大化研

• 小林 研介

  京都大学化学研究所

• 小野 輝男

  慶大理工

• デルモ マイケル

  京都大学化学研究所

• 山本 真平

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• 山本 真平

  京大物質・細胞統合システム拠点

• 山本 真平

  京都大学化学研究所

• Delmo Michael

  京都大学化学研究所

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