24pWK-10 Si-金属界面における磁気抵抗効果のキャリア濃度依存性(領域3,領域9合同講演,領域9,表面・界面,結晶成長)

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概要

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• 2008-02-29

著者

• 葛西 伸哉

  物質・材料研究機構磁性材料センター

• 小野 輝男

  京都大学化学研究所

• 葛西 伸哉

  京都大学化学研究所

• 小林 研介

  京大化研

• 小林 研介

  京都大学化学研究所

• 玉田 芳紀

  京大化研

• 小野 輝男

  慶大理工

• デルモ マイケル

  京都大学化学研究所

• 山本 真平

  京大物質・細胞統合システム拠点

• 山本 真平

  京都大学化学研究所

• 玉田 芳紀

  京都大学化学研究所

• Delmo Michael

  京都大学化学研究所

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