24pWK-10 Si-金属界面における磁気抵抗効果のキヤリア濃度依存性(24pWK 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2008-02-29

著者

• 葛西 伸哉

  物質・材料研究機構磁性材料センター

• 小野 輝男

  京都大学化学研究所

• 葛西 伸哉

  京都大学化学研究所

• 小林 研介

  京大化研

• 小林 研介

  京都大学化学研究所

• 玉田 芳紀

  京大化研

• 小野 輝男

  慶大理工

• デルモ マイケル

  京都大学化学研究所

• 山本 真平

  京大物質・細胞統合システム拠点

• 山本 真平

  京都大学化学研究所

• 玉田 芳紀

  京都大学化学研究所

• Delmo Michael

  京都大学化学研究所

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