石綿 延行 | Nec
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概要
関連著者
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石綿 延行
Nec
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小野 輝男
京大化研
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深見 俊輔
NECデバイスプラットフォーム研究所
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千葉 大地
京大化研
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深見 俊輔
Nec
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石綿 延行
日本電気株式会社
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深見 俊輔
NECA:東北大
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石綿 延行
Necデバプラ研
-
小野 輝男
京都大学化学研究所
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仲谷 栄伸
電通大情報
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小山 知弘
京大化研
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石綿 延行
日本電気株式会社 機能デバイス研究所
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千葉 大地
科学技術振興機構erato
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鈴木 哲広
NECデバイスプラットフォーム研究所
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鈴木 哲広
Nec
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小山 知弘
京都大学化学研究所
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大嶋 則和
NECデバイスプラットフォーム研究所
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上田 浩平
京大化研
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大嶋 則和
NEC機能エレクトロニクス研究所
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大嶋 則和
Necデバプラ研
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大嶋 則和
Nec
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谷川 博信
日本電気 グリーンイノベーション研究所
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平松 亮
京大化研
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谷川 博信
NECデバプラ研
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浦井 治雄
NECファイル装置事業部
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鈴木 哲広
NEC 機能エレクトロニクス研究所
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奥村 俊之
Nec
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柿堺 悠
慶大理工
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島村 一利
京大化研
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谷川 博信
NEC
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河口 真志
京大化研
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柿堺 悠
京大化研
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山田 貴大
京大化研
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近藤 浩太
京都大学化学研究所
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小野 輝男
慶大理工
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島村 一利
東大化研
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小野 輝男
大阪大院基礎工
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近藤 浩太
京大化研
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谷川 博信
京大化研
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石 勉
NEC機能デバイス研究所
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浦井 治雄
NEC
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石 勉
MIRAI-Selete
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石 勉
NEC基礎・環境研究所
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糸永 徳雄
関西日電
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大坂 明弘
NEC 機能エレクトロニクス研究所
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近藤 浩太
物材機構
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仲谷 栄伸
電通大情報理工
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小林 研介
京大化研
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大河内 拓雄
原子力機構放射光
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加藤 健一
理研
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永原 聖万
NECデバイスプラットフォーム研究所
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齊藤 信作
NECデバイスプラットフォーム研究所
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本庄 弘明
NECデバイスプラットフォーム研究所
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大河内 拓雄
JASRI
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千葉 大地
京都大学化学研究所
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小林 賢介
阪市大院理
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木下 豊彦
高輝度セ
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河野 浩
阪大基礎工
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大橋 啓之
日本電気(株)
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斎藤 美紀子
NEC
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大橋 啓之
NEC
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山田 一彦
NEC
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木下 豊彦
NEDO
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小嗣 真人
Jasri
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山田 一彦
日本電気株式会社 機能デバイス研究所
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木下 豊彦
Jasri
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斉藤 信作
日本電気(株)
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石綿 延行
日本電気(株)
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齋藤 信作
日本電気(株)システムデバイス研究所
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松寺 久雄
NEC機能デバイス研究所
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斎藤 美紀子
NEC機能デバイス研究所
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大橋 啓之
NEC機能デバイス研究所
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中田 正文
日本電気(株)ナノエレクトロニクス研究所
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野中 義弘
NEC機能デバイス研究所
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鳥羽 環
NEC機能デバイス研究所
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斎藤 信作
NEC機能デバイス研究所
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鈴木 富士夫
NEC
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野中 義弘
日本電気株式会社機能デバイス研究所
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中田 正文
NEC
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嶋林 清孝
NEC
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石綿 延行
NEC 機能エレクトロニクス研究所
-
松寺 久雄
NEC 機能エレクトロニクス研究所
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斎藤 信作
Nec
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浦井 治雄
日本電気(株)ファイル装置事業部
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小野 新平
電力中央研究所
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永原 聖万
NEC機能エレクトロニクス研究所
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斎藤 美紀子
早稲田大学
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齋藤 美紀子
Nec・機能エレクトロニクス研究所
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中田 正文
Nec機能エレ研
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田中 正文
NEC機能デバイス研究所
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山田 一彦
Nec機能デバイス研
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齋藤 美紀子
日本電気(株)基礎・環境研究所
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大橋 啓介
MIRAI-Selete
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加藤 建一
高輝度光科学研究セ
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奥村 俊之
日本電気(株)機能エレクトロニクス研究所
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奥村 俊之
NEC機能エレクトロニクス研究所
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小嗣 真人
広島大学放射光科学研究センター
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奥村 俊之
NEC 機能エレクトロニクス研究所
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奥村 俊之
日電
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石綿 延行
日電
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大坂 明弘
日電
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浦井 治雄
日電
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大坂 明弘
日本電気(株)ビデオ開発センター
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糸永 徳雄
関西日本電気(株)開発研究部
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中田 正文
Mirai-selete
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小嗣 真人
Jasri/spring-8
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永原 聖万
Nec
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小林 研介
(独) 物質・材料研究機構 共用ビームステーション
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小林 賢介
高エネ機構物構研CMRC
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樹神 克明
原子力研究開発機構
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深見 俊輔
物材機構
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小嗣 真人
財団法人高輝度光科学研究センター
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小林 研介
大阪大学大学院理学研究科
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島村 一利
京都大学化学研究所
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河口 真志
京都大学化学研究所
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小嗣 真人
(公財)高輝度光科学研究センター(SPring-8/JASRI)
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深見 俊輔
NEC:東北大CSIS
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本庄 弘明
日本電気株式会社グリーンプラットフォーム研究所
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小野 輝勇
京大化研
著作論文
- 高飽和磁化磁極を用いた記録ヘッド : 高速記録用小型コアCo-Ni-Fe記録ヘッド
- 高安定スピンバルブ/高Bsインダクティブ複合ヘッド 製造工程における異方性制御について
- 25aPS-43 Co/Ni細線における磁壁電流駆動の温度依存性(25aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24aWP-5 磁壁電流駆動における閾電流密度に対する外部磁場の影響(24aWP 磁化ダイナミクス,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 1)HD-ディジタルVTR用FeTaN積層膜ヘッド : FeTaN積層膜ヘッドの電磁変換特性(画像情報記録研究会)
- HD-ディジタルVTR用FeTaN積層膜ヘッド : FeTaN積層膜ヘッドの電磁変換特性 : 画像情報記録
- 2)高速高密度記録用積層コア型VTRヘッドの開発(〔画像情報記録研究会放送現業研究会〕合同)
- 高速高密度記録用積層コア型VTRヘッドの開発(ディジタルVTR特集)
- 28aHF-9 SPELEEMを用いたCo/Ni細線中の電流誘起磁壁移動観察(28aHF スピントロニクス(スピンホール効果,ナノ磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 26aPS-35 Co/Ni細線における磁壁電流駆動の温度依存性II(26aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 28aHF-8 磁壁回転素子の開発2(28aHF スピントロニクス(スピンホール効果,ナノ磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 26aPS-24 電流印加下におけるデピニング磁場測定(26aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 23pRA-5 磁壁電流駆動における閾電流密度に対する外部磁場の影響II(23pRA スピントロニクス(スピントルク・電流誘起ダイナミクス・薄膜・微粒子),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 23pRA-4 垂直磁化Co/Ni細線の磁壁電流駆動の温度依存性(23pRA スピントロニクス(スピントルク・電流誘起ダイナミクス・薄膜・微粒子),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 21aPS-31 Co/Ni細線における磁壁内の磁化回転検出の試み(21aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24aPS-28 Co/Ni細線における磁壁内の磁化回転検出の試みII(24aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24aPS-29 電流誘起磁壁速度と磁場誘起磁壁速度の加算性について(24aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 19aCC-12 Co/Ni細線における磁壁内の磁化回転検出の試みIII(19aCC スピントロニクス(熱・力学的スピン・磁化制御),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 27aXA-10 Co超薄膜における磁気異方性の電界制御(27aXA スピントロニクス(ナノ磁性体),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 27aXA-7 透明ゲート電極下のCo/Pt細線における磁壁移動のKerr顕微鏡による観察(27aXA スピントロニクス(ナノ磁性体),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 遷移金属強磁性体における磁性の電界制御
- 25aPS-11 Pt/Co/MgO界面垂直磁気異方性の電界による変調(領域3ポスターセッション(スピントロニクス・表面・界面磁性・マルチフェロイクス・遍歴磁性・磁性一般),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 25aPS-20 透明ゲート電極下のCo/Pt細線における磁壁移動のKerr顕微鏡による観察(II)(領域3ポスターセッション(スピントロニクス・表面・界面磁性・マルチフェロイクス・遍歴磁性・磁性一般),領域3(磁性,磁気共鳴))