吉丸 正樹 | 沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

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概要

• 同名の論文著者
• 沖電気工業(株)超LSI研究開発センタの論文著者

関連著者

• 吉丸 正樹

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 吉丸 正樹

  沖電気工業(株)シリコンソリューションカンパニー研究本部

• 伊野 昌義

  沖電気工業超LSI研究開発センタ

• 下川 公明

  沖電気研究本部デバイス研究開発部

• 伊野 昌義

  沖電気工業

• 下川 公明

  沖電気工業

• 山内 智

  沖電気工業株式会社

• 吉丸 正樹

  半導体理工学センター(starc)

• 山内 智

  沖電気工業(株)

• 陳 世昌

  沖電気工業(株)超lsi研究開発センタ

• 井上 信彦

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 竹広 忍

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 井田 次郎

  沖電気工業株式会社

• 井田 次郎

  沖電気工業 超lsi研究開発センター

• 鉄田 博

  沖電気工業株式会社生産センタ

• 〓田 博

  沖電気工業株式会社 生産センタ

• おの田 博

  沖電気工業

• 宇佐見 隆志

  沖電気工業

• 宇佐見 隆志

  沖電気工業超lsi研究開発センタ

• 伊東 敏雄

  沖電気工業(株)シリコンソリューションカンパニー研究本部

• 三橋 敏郎

  沖電気工業株式会社ATP生産本部

• 黒田 英明

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー テクノロジー開発本部

• 黒田 英明

  ソニー(株)

• 市川 文雄

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センター

• 市川 文雄

  沖電気工業(株)

• 吉江 徹

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 木城 耕一

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 伊藤 康幸

  ソニー(株)厚木第1テクノロジーセンター

• 伊藤 康幸

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー テクノロジー開発本部

• 足利 欣哉

  沖電気工業 半導体事業グループ 研究本部

• 北 明夫

  沖電気工業

• 庄子 光治

  ソニー(株)中央研究所

• 庄子 光治

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー テクノロジー開発本部

• 守屋 博之

  ソニー(株)

• 佐々木 正義

  ソニー(株)セミコンタクタカンパニー第1LSI部門

• 一森 高示

  沖電気工業 半導体事業グループ 研究本部

• 林 孝尚

  沖電気工業 半導体事業グループ 研究本部

• 五十嵐 泰史

  沖電気工業(株)シリコンソリューションカンパニー研究本部

• 猪股 大介

  沖電気工業(株)シリコンソリューションカンパニー研究本部

• 長田 昌也

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー,テクノロジー開発本部

• 御手洗 俊

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー,テクノロジー開発本部

• 後醍院 弘典

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー,テクノロジー開発本部

• 長浜 勉

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー,テクノロジー開発本部

• 磯部 千春

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー,テクノロジー開発本部

• 後醍院 弘典

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー テクノロジー開発本部

• 長浜 勉

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー テクノロジー開発本部

• 林 孝尚

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センタ

• 橋本 圭市

  沖電気工業(株) 超lsi研究開発センター

• 橋本 圭市

  沖電気工業

• 佐々木 正義

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー テクノロジー開発本部

• 田村 浩之

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センター

• 黒木 弘樹

  沖電気工業株式会社超LSI研究開発センター

• 守屋 博之

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー テクノロジー開発本部

• 三橋 敏郎

  沖電気工業(株)シリコンソリューションカンパニー研究本部

• 大友 篤

  沖電気工業 超lsi研究開発センター

• 影山 麻樹子

  沖電気工業

• 御手洗 俊

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー テクノロジー開発本部

• 長田 昌也

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー テクノロジー開発本部

• 原田 裕介

  沖電気工業

• 梶田 陽子

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センター

• 中原 智也

  沖電気工業超LSI研究開発センタ

• 三橋 敏郎

  沖電気工業

• 小泉 賢

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 磯部 千春

  ソニー(株)セミコンダクターネツトワークカンパニー テクノロジー開発本部

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著作論文

• 金属電極上に堆積したTa2O5の膜特性
• RFスパッタ法による(Ba, Sr)TiO_3薄膜の結晶性と電気特性
• DRAM対応スパッタ(Ba, Sr)TiO_3薄膜の低温成膜
• 反応性スパッタと急速熱処理による強誘電体PZT薄膜の形成技術
• RTA処理したスパッタPZTの薄膜化と不揮発特性
• SBT膜と新構造スタックセルを用いた4Mb FeRAM(デバイス/回路動作 : 強誘電体薄膜とデバイス応用)
• HFヴェーパクリーニングを前処理として用いた極薄シリコン窒化膜の形成
• 低誘電率SiOF膜の0.35μmCMOSへの適用
• 多層配線における埋め込みヴィアホール形成技術
• ゾルゲル法によるPZT/PTO積層膜の形成
• TEOS-O_3 APCVD SiO_2の成膜機構検討
• PECVD SiOF膜の構造検討(II)
• PECVD SiOF膜の構造検討

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