伊野 昌義 | 沖電気工業超LSI研究開発センタ

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概要

• 同名の論文著者
• 沖電気工業超LSI研究開発センタの論文著者

関連著者

• 伊野 昌義

  沖電気工業超LSI研究開発センタ

• 伊野 昌義

  沖電気工業

• 吉丸 正樹

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 吉丸 正樹

  沖電気工業(株)シリコンソリューションカンパニー研究本部

• 曽根田 光生

  ソニー株式会社 メディアプロセシング研究所

• 山田 順三

  NTT通信エネルギー研究所

• 曽根田 光生

  ソニー(株)半導体事業本部 研究部

• 大路 譲

  株式会社日立製作所半導体事業部

• 大路 譲

  日立製作所半導体事業部

• 堀口 文男

  株式会社 東芝 半導体事業本部

• 山田 順三

  NTT LSI研究所

• 山田 順三

  Ntt 通信エネルギー研

• 山田 順三

  Ntt

• 大路 譲

  (株)半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 山内 智

  沖電気工業株式会社

• 市川 文雄

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センター

• 市川 文雄

  沖電気工業(株)

• 井上 信彦

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 酒井 芳男

  日立製作所

• 堀口 文男

  東芝

• 赤塚 泰生

  日本電気

• 喜多川 儀久

  日本Ti

• 井田 次郎

  沖電気工業株式会社

• 北 明夫

  沖電気工業

• 下川 公明

  沖電気研究本部デバイス研究開発部

• 長友 良樹

  沖電気研究本部デバイス研究開発部

• 伊藤 眞宏

  沖電気工業株式会社

• 長友 良樹

  沖電気工業株式会社

• 黒田 茂樹

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 大路 譲

  半導体先端テクノロジーズ(selete)

• 田村 浩之

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センター

• 黒木 弘樹

  沖電気工業株式会社超LSI研究開発センター

• 井田 次郎

  沖電気工業 超lsi研究開発センター

• 鉄田 博

  沖電気工業株式会社生産センタ

• 〓田 博

  沖電気工業株式会社 生産センタ

• おの田 博

  沖電気工業

• 黒田 茂樹

  沖電気工業

• 大友 篤

  沖電気工業 超lsi研究開発センター

• 喜多川 儀久

  日本テキサスインスツルメンツasm設計課

• 宇佐見 隆志

  沖電気工業

• 下川 公明

  沖電気工業

• 中原 智也

  沖電気工業超LSI研究開発センタ

• 土生津 義宗

  沖電気工業

• 伊藤 眞宏

  沖電気工業

• 黒田 茂樹

  沖電気工業超lsi研究開発センタ

• 宇佐見 隆志

  沖電気工業超lsi研究開発センタ

• 曽根田 光生

  ソニー

• 山内 智

  沖電気工業(株)

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著作論文

• RTA処理したスパッタPZTの薄膜化と不揮発特性
• 21世紀に向けた半導体メモリの技術課題とロードマップ
• LOCOSプロセス条件とアクティブの方向が接合リーク電流に与える影響
• HFヴェーパクリーニングを前処理として用いた極薄シリコン窒化膜の形成
• 低誘電率SiOF膜の0.35μmCMOSへの適用
• ゾルゲル法によるPZT/PTO積層膜の形成

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