井田 次郎 | 沖電気工業 超lsi研究開発センター
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概要
関連著者
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井田 次郎
沖電気工業 超lsi研究開発センター
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井田 次郎
沖電気工業株式会社
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鉄田 博
沖電気工業株式会社生産センタ
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〓田 博
沖電気工業株式会社 生産センタ
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おの田 博
沖電気工業
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大友 篤
沖電気工業 超lsi研究開発センター
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吉丸 正樹
沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ
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井田 次郎
沖電気研究本部デバイス研究開発部
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井田 次郎
沖電気
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森川 剛一
沖電気工業 超LSI研究開発センター
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吉丸 正樹
沖電気工業(株)シリコンソリューションカンパニー研究本部
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伊野 昌義
沖電気工業超LSI研究開発センタ
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福田 浩一
沖電気工業株式会社
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三浦 規之
沖電気工業株式会社
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堂前 泰宏
沖電気工業株式会社
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坂田 豊和
沖電気工業株式会社
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渡辺 実
沖電気工業株式会社
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岡村 友博
沖電気工業株式会社
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千葉 正
沖電気工業株式会社
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北 明夫
沖電気工業
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下川 公明
沖電気研究本部デバイス研究開発部
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堂前 泰宏
沖電気研究本部デバイス研究開発部
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橋本 圭市
沖電気工業(株) 超lsi研究開発センター
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橋本 圭市
沖電気工業
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伊野 昌義
沖電気工業
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影山 麻樹子
沖電気工業
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原田 裕介
沖電気工業
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宇佐見 隆志
沖電気工業
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下川 公明
沖電気工業
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梶田 陽子
沖電気工業(株)超LSI研究開発センター
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宇佐見 隆志
沖電気工業超lsi研究開発センタ
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渡辺 実
沖電気工業(株)超lsi研究開発センタ
著作論文
- ノンドープ・ノンオーバーラップ構造を用いた超低リーク版FD-SOIトランジスタ
- 低誘電率SiOF膜の0.35μmCMOSへの適用
- a-Si/Ti ローカル配線での相互拡散, 寄生容量低減の解析
- a-Si/Ti ローカル配線での相互拡散, 寄生容量低減の解析
- 多層配線における埋め込みヴィアホール形成技術
- 低消費電力 完全空乏型SOI-MOSFETの現状と展望
- 低誘電率層間膜のサブハ-フミクロンCMOSへの応用 (VLSI) -- (プロセス技術)