福田 浩一 | 沖電気工業株式会社

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概要

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• 沖電気工業株式会社の論文著者

関連著者

• 福田 浩一

  沖電気工業株式会社

• 三浦 規之

  沖電気工業株式会社

• 西 謙二

  近畿大工業高専

• 西 謙二

  沖電気工業株式会社超LSI研究開発センタ

• 林 洋一

  沖電気工業株式会社 シリコンソリューションカンパニー 研究本部

• 林 洋一

  沖電気工業株式会社

• 林 洋一

  沖電気工業

• 小松原 弘穀

  沖電気工業株式会社シリコンソリューションカンパニー研究本部

• 小松原 弘毅

  半導体先端テクノロジーズ

• 小松原 弘毅

  沖電気工業株式会社 シリコンソリューションカンパニー 研究本部

• 福田 保裕

  沖電気工業品質保証センタ

• 望月 麻理恵

  (株)半導体先端テクノロジーズ第二研究部

• 望月 麻理恵

  沖電気工業株式会社 シリコンソリューションカンパニー 研究本部

• 樋坂 勝弘

  沖電気工業株式会社超LSI研究開発センタ

• 福田 保裕

  沖電気工業 研究本部

• 甲斐 和彦

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 福田 保裕

  沖電気工業

• 小松原 弘穀

  沖電気工業(株) 超LSI研究開発センタ

• 黒田 茂樹

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 黒田 茂樹

  沖電気工業

• 吉田 匡宏

  沖電気工業株式会社生産センタ

• 谷島 司

  沖電気工業株式会社超LSI研究センタ

• 若山 恵一

  宮城沖電気株式会社

• 西谷 明人

  沖電気工業株式会社生産センタ

• 長友 良樹

  宮城沖電気株式会社

• 長友 良樹

  沖電気研究本部デバイス研究開発部

• 坂倉 宏

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 大野 守史

  沖電気工業(株)

• 三輪 佳子

  沖電気工業(株)超lsi研究開発センタ

• 堂前 泰宏

  沖電気工業株式会社

• 坂田 豊和

  沖電気工業株式会社

• 渡辺 実

  沖電気工業株式会社

• 岡村 友博

  沖電気工業株式会社

• 千葉 正

  沖電気工業株式会社

• 井田 次郎

  沖電気工業株式会社

• 田中 宏幸

  沖電気工業(株) 超lsi研究開発センタ

• 北 明夫

  沖電気工業

• 内田 英次

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 平下 紀夫

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 劉 国林

  沖電気工業株式会社電子デバイス事業本部

• 平下 紀夫

  沖電気工業株式会社超lsi研究セソタ

• 堂前 泰宏

  沖電気研究本部デバイス研究開発部

• 井田 次郎

  沖電気研究本部デバイス研究開発部

• 林 孝尚

  沖電気工業 半導体事業グループ 研究本部

• 林 孝尚

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センタ

• 劉 国林

  沖電気工業(株)超lsi研究開発センタ

• 大野 守史

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センタ

• 井田 次郎

  沖電気工業 超lsi研究開発センター

• 井田 次郎

  沖電気

• 大野 守史

  沖電気工業

• 北 明夫

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センタ

• 渡辺 実

  沖電気工業(株)超lsi研究開発センタ

• 平下 紀夫

  沖電気工業 (株) 超LSI開発センタ

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著作論文

• ノンドープ・ノンオーバーラップ構造を用いた超低リーク版FD-SOIトランジスタ
• 半導体デバイス・回路混合(Mixed-Mode)シミュレーションを用いたESD保護設計 (特集 EMCを解決するシミュレーション)
• TCADによる完全空乏型SOIトランジスタ設計(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• TCADによる完全空乏型SOIトランジスタ設計(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 簡易逆短チャネル効果モデルの検討 : 実デバイスへの適用
• 簡易逆短チャネル効果モデルの検討 : 実デバイスへの適用
• MOSFET開発におけるTCAD適用手法
• MOSFET開発におけるTCAD適用手法
• ドーパントパイルアップを考慮した簡易逆短チャネル効果モデルの検討
• ドーパントパイルアップを考慮した簡易逆短チャネル効果モデルの検討
• ドーパントパイルアップを考慮した簡易逆短チャネル効果モデルの検討
• 先端デバイスにおけるESD保護素子評価手法 (半導体特集) -- (高密度実装および信頼性評価技術)
• TCADを用いた半導体製造プロセスの最適化 (半導体特集) -- (先端プロセスとデバイス技術)
• MOSFETスナップバック特性のプロセスデバイスシミュレーション
• MOSFETスナップバック特性のプロセスデバイスシミュレーション
• MOSFETスナップバック特性のプロセスデバイスシミュレーション
• MOSFETスナップバック特性のプロセスデバイスシミュレーション
• TCADを用いた半導体製造プロセスの最適化
• TCADを用いた半導体製造プロセスの最適化
• TCADを用いた半導体製造プロセスの最適化
• 統合シミュレーションシステムUNISAS-Xの開発
• TCADを用いた半導体製造プロセスの最適化
• MOSFETの容量測定とチャージポンピング測定による界面準位のラテラルプロファイル評価
• インバ-スモデリング技術を用いたMOSFETチャネルプロファイル抽出法の開発
• インバースモデリングによるMOSFETの疑似2次元プロファイル抽出
• インバースモデリング技術を用いたMOSFETチャネルプロファイル抽出法の検討
• フラッシュメモリセルBBT現象のシミュレーションによる解析と高信頼性セルの開発(ディープサブミクロンMOSトランジスタ技術小特集)
• サリサイドMOSFETのプロセス/デバイス一貫シミュレーション

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