黒田 茂樹 | 沖電気工業

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概要

• 同名の論文著者
• 沖電気工業の論文著者

関連著者

• 黒田 茂樹

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 黒田 茂樹

  沖電気工業

• 西 謙二

  近畿大工業高専

• 西 謙二

  沖電気工業株式会社超LSI研究開発センタ

• 福田 浩一

  沖電気工業株式会社

• 甲斐 和彦

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 林 洋一

  沖電気工業株式会社 シリコンソリューションカンパニー 研究本部

• 劉 国林

  沖電気工業株式会社電子デバイス事業本部

• 坂倉 宏

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 劉 国林

  沖電気工業(株)超lsi研究開発センタ

• 林 洋一

  沖電気工業株式会社

• 黒田 茂樹

  沖電気工業超lsi研究開発センタ

• 林 洋一

  沖電気工業

• 三輪 佳子

  沖電気工業(株)超lsi研究開発センタ

• 伊野 昌義

  沖電気工業超LSI研究開発センタ

• 内田 英次

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 平下 紀夫

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 平下 紀夫

  沖電気工業株式会社超lsi研究セソタ

• 長友 良樹

  沖電気研究本部デバイス研究開発部

• 伊藤 眞宏

  沖電気工業株式会社

• 長友 良樹

  沖電気工業株式会社

• 伊野 昌義

  沖電気工業

• 合川 泉

  沖電気工業超LSI研究開発センタ

• 土生津 義宗

  沖電気工業

• 山手 正浩

  沖電気工業

• 伊藤 眞宏

  沖電気工業

• 平下 紀夫

  沖電気工業 (株) 超LSI開発センタ

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著作論文

• 統合シミュレーションシステムUNISAS-Xの開発
• インバースモデリング技術を用いたMOSFETチャネルプロファイル抽出法の検討
• LOCOSプロセス条件とアクティブの方向が接合リーク電流に与える影響
• サリサイドMOSFETのプロセス/デバイス一貫シミュレーション
• 内標準法に基づく浅いドーパントプロファイルの高精度SIMS測定
• 希釈ウェット雰囲気中のシリコン熱酸化モデルの検討
• プロセスシミュレーションの現状と課題

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