プロセスシミュレーションの現状と課題

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概要

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プロセスシミュレーションの現状と課題をまとめた。プロセスシミュレーションは現在超LSIプロセス開発に於て重要な地位を確立し、シミュレーションの対象も拡大している。今後の更なる発展のために、プロセス低温化に対応した高精度モデリングが重要であり、プロファイル測定技術の高度化と併せての研究・開発が急務である。中・長期的には、装置シミュレーション、第一原理シミュレーションを通じてフィッティング要素の少ないシミュレーション技術を構築すると共に、CIMとの結合を考慮したユーザインタフェースを開発し、実験試作ラインと直結したシステム構築を行い、ユーザの拡大を図ることが重要である。
社団法人電子情報通信学会の論文
1993-09-16

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